曝光装置、及曝光装置的设计方法.pdf

本发明提供一种曝光装置，最合适地配置多个灯。曝光装置(10)具备由多个灯(12)构成的灯组(11)、和接收来自多个灯(12)的光来提高该光的均一性的积分器(14)，曝光装置(10)满足以下的条件式1及2，由此可以解决上述课题。条件式1为a≦tanθ1×L×2，条件式2为θ1－θ2＝θ3，其中，a为灯组的纵×21尺寸及横×21尺寸L为灯组的出光位置至积分器的入射位置的距离θ1为×08灯的光轴和积分器的中心轴形成的角度内的最大值θ2为来自×08灯的光的孔径角θ3为积分器入射角。

2023-06-10

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曝光装置和曝光方法.pdf

提供曝光装置和曝光方法,即使在狭小的区域中也能够高精度地检测曝光位置。曝光装置(10)具有遮光部(40),该遮光部(40)设置有沿着主扫描方向(X)排列的第1缝隙(SU1)和第2缝隙(SU2),该曝光装置(10)使配置有正方形状的子图案(PT1～PT5)的X型的离散的位置检测图案(PT)的光相对于遮光部(40)的第1、第2缝隙(SU1、SU2)沿着主扫描方向(X)进行扫描。

2023-05-17

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曝光装置以及曝光装置的对准方法.pdf

曝光装置以及曝光装置的对准方法，即使对配设有众多图案的基板，也迅速且准确地进行对准。曝光装置具有对准所使用的照相机(29)和DMD(22)，能够按照FO‑WLP形成图案，在该曝光装置中，使多个半导体芯片(SC)落在视野内而同时拍摄，从其图像提取各个半导体芯片(SC)的轮廓，将提取了作为标记的连接焊盘(CP)的比较对象区域(TA)的图像与模板图像进行比较，检测各芯片的位置偏差量。

2023-09-02

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接近式曝光装置及曝光方法.pdf

本发明提供一种接近式曝光装置及曝光方法,其中,第一基板承载台、第一运输器、基板存储结构、第二运输器以及第二基板承载台呈线性排列,利于基板的运输。基板存储结构包括至少两个工位,以实现同时上下板。第一运输器和第二运输器均包括第一机械手和第二机械手,两个机械手可以独立作业,提高生产效率。此外,第一工件台和第二工件台共用一个曝光单元,不仅能有序曝光,还降低成本,缩小接近式曝光装置的尺寸。并且,基板存储结构和曝光单元共线设置,两个基板承载台、两个运输器和两个工件台均关于所述共线呈对称分布。这布局方式不仅有利于提高基

2023-06-07

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接近式曝光装置以及接近式曝光方法.pdf

接近式曝光装置包括:平面镜(68),具有能够校正曲率的镜变形单元(70);CCD摄像机(30),能够拍摄掩模M侧的对准标记(Ma)和工件(W)侧的对准标记(Wa);存储部(91),存储根据在对第一层的掩模(M)的图案进行曝光时照射到工件(W)的主光线(EL)的角度和掩模(M)及工件(W)间的间隙计算的对准标记(Wa)的初始偏移分量;以及控制装置(90),在对第二层以后的掩模(M)的图案进行曝光时,利用对于由CCD摄像机(30)观测的工件(W)侧的对准标记(Wa)补偿初始偏移分量而得到的工件(W)侧的校正对

2023-06-06

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