曝光装置、及曝光装置的设计方法.pdf
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相关资料
曝光装置、及曝光装置的设计方法.pdf
本发明提供一种曝光装置,最合适地配置多个灯。曝光装置(10)具备由多个灯(12)构成的灯组(11)、和接收来自多个灯(12)的光来提高该光的均一性的积分器(14),曝光装置(10)满足以下的条件式1及2,由此可以解决上述课题。条件式1为a≦tanθ1×L×2,条件式2为θ1-θ2=θ3,其中,a为灯组的纵×21尺寸及横×21尺寸L为灯组的出光位置至积分器的入射位置的距离θ1为×08灯的光轴和积分器的中心轴形成的角度内的最大值θ2为来自×08灯的光的孔径角θ3为积分器入射角。
曝光装置以及曝光装置的对准方法.pdf
曝光装置以及曝光装置的对准方法,即使对配设有众多图案的基板,也迅速且准确地进行对准。曝光装置具有对准所使用的照相机(29)和DMD(22),能够按照FO‑WLP形成图案,在该曝光装置中,使多个半导体芯片(SC)落在视野内而同时拍摄,从其图像提取各个半导体芯片(SC)的轮廓,将提取了作为标记的连接焊盘(CP)的比较对象区域(TA)的图像与模板图像进行比较,检测各芯片的位置偏差量。
曝光装置和曝光方法.pdf
提供曝光装置和曝光方法,即使在狭小的区域中也能够高精度地检测曝光位置。曝光装置(10)具有遮光部(40),该遮光部(40)设置有沿着主扫描方向(X)排列的第1缝隙(SU1)和第2缝隙(SU2),该曝光装置(10)使配置有正方形状的子图案(PT1~PT5)的X型的离散的位置检测图案(PT)的光相对于遮光部(40)的第1、第2缝隙(SU1、SU2)沿着主扫描方向(X)进行扫描。
接近式曝光装置及曝光方法.pdf
本发明提供一种接近式曝光装置及曝光方法,其中,第一基板承载台、第一运输器、基板存储结构、第二运输器以及第二基板承载台呈线性排列,利于基板的运输。基板存储结构包括至少两个工位,以实现同时上下板。第一运输器和第二运输器均包括第一机械手和第二机械手,两个机械手可以独立作业,提高生产效率。此外,第一工件台和第二工件台共用一个曝光单元,不仅能有序曝光,还降低成本,缩小接近式曝光装置的尺寸。并且,基板存储结构和曝光单元共线设置,两个基板承载台、两个运输器和两个工件台均关于所述共线呈对称分布。这布局方式不仅有利于提高基
曝光机的真空曝光装置.pdf
本发明揭示了一种曝光机的真空曝光装置,用于对网版(13)进行曝光制版,包括曝光灯(6)和真空吸气系统(7),所述曝光机的真空曝光装置还包括设置于所述曝光灯(6)下方的上密封组件(1)和下密封组件(2),所述上密封组件(1)和下密封组件(2)之间形成一个密闭的空间(3),所述真空吸气系统(7)可对所述空间(3)抽真空,所述下密封组件(2)设置有放置所述网版(13)的活动件(4),所述上密封组件(1)包括玻璃板(5),所述真空吸气系统(7)对所述空间(3)抽真空时,所述活动件(4)向上运动,带动所述网版(13