曝光装置和曝光方法.pdf
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相关资料
曝光装置和曝光方法.pdf
提供曝光装置和曝光方法,即使在狭小的区域中也能够高精度地检测曝光位置。曝光装置(10)具有遮光部(40),该遮光部(40)设置有沿着主扫描方向(X)排列的第1缝隙(SU1)和第2缝隙(SU2),该曝光装置(10)使配置有正方形状的子图案(PT1~PT5)的X型的离散的位置检测图案(PT)的光相对于遮光部(40)的第1、第2缝隙(SU1、SU2)沿着主扫描方向(X)进行扫描。
曝光装置、及曝光装置的设计方法.pdf
本发明提供一种曝光装置,最合适地配置多个灯。曝光装置(10)具备由多个灯(12)构成的灯组(11)、和接收来自多个灯(12)的光来提高该光的均一性的积分器(14),曝光装置(10)满足以下的条件式1及2,由此可以解决上述课题。条件式1为a≦tanθ1×L×2,条件式2为θ1-θ2=θ3,其中,a为灯组的纵×21尺寸及横×21尺寸L为灯组的出光位置至积分器的入射位置的距离θ1为×08灯的光轴和积分器的中心轴形成的角度内的最大值θ2为来自×08灯的光的孔径角θ3为积分器入射角。
曝光装置以及曝光装置的对准方法.pdf
曝光装置以及曝光装置的对准方法,即使对配设有众多图案的基板,也迅速且准确地进行对准。曝光装置具有对准所使用的照相机(29)和DMD(22),能够按照FO‑WLP形成图案,在该曝光装置中,使多个半导体芯片(SC)落在视野内而同时拍摄,从其图像提取各个半导体芯片(SC)的轮廓,将提取了作为标记的连接焊盘(CP)的比较对象区域(TA)的图像与模板图像进行比较,检测各芯片的位置偏差量。
接近式曝光装置及曝光方法.pdf
本发明提供一种接近式曝光装置及曝光方法,其中,第一基板承载台、第一运输器、基板存储结构、第二运输器以及第二基板承载台呈线性排列,利于基板的运输。基板存储结构包括至少两个工位,以实现同时上下板。第一运输器和第二运输器均包括第一机械手和第二机械手,两个机械手可以独立作业,提高生产效率。此外,第一工件台和第二工件台共用一个曝光单元,不仅能有序曝光,还降低成本,缩小接近式曝光装置的尺寸。并且,基板存储结构和曝光单元共线设置,两个基板承载台、两个运输器和两个工件台均关于所述共线呈对称分布。这布局方式不仅有利于提高基
曝光装置和物品制造方法.pdf
本发明公开了曝光装置和物品制造方法。提供了一种曝光装置,该曝光装置执行在交换基板的同时曝光多个基板中的各个基板的作业处理。该装置包括被配置为保持基板的基板保持器以及被配置为控制作业处理的控制器。控制器基于作业处理的经过时间与基板变形量之间的关系来校正由于基板的变形而生成的重叠误差,并曝光基板。在该关系中,在基板交换时输送到基板保持器的基板被赋予初始变形量,该初始变形量与基板保持器在基板交换时的残留热量对应。