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接近式曝光装置包括:平面镜(68),具有能够校正曲率的镜变形单元(70);CCD摄像机(30),能够拍摄掩模M侧的对准标记(Ma)和工件(W)侧的对准标记(Wa);存储部(91),存储根据在对第一层的掩模(M)的图案进行曝光时照射到工件(W)的主光线(EL)的角度和掩模(M)及工件(W)间的间隙计算的对准标记(Wa)的初始偏移分量;以及控制装置(90),在对第二层以后的掩模(M)的图案进行曝光时,利用对于由CCD摄像机(30)观测的工件(W)侧的对准标记(Wa)补偿初始偏移分量而得到的工件(W)侧的校正对准标记(Wa)以及掩模M侧的对准标记(Ma)来进行对准调整。