一种晶圆片表面金属杂质处理装置及方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115889328A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202211490538.6F26B21/00(2006.01)(22)申请日2022.11.25(71)申请人鑫德斯特电子设备(安徽)有限公司地址243000安徽省马鞍山市慈湖高新区霍里山大道北段1669号3栋(72)发明人顾少俊耿伟周航余珺(74)专利代理机构南通亿旸知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32578专利代理师丁松鹏(51)Int.Cl.B08B3/12(2006.01)B08B5/04(2006.01)B08B11/02(2006.01)B08B13/00(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图5页(54)发明名称一种晶圆片表面金属杂质处理装置及方法(57)摘要本发明公开了一种晶圆片表面金属杂质处理装置，包括除尘装置、清洗装置和风干装置，所述除尘装置和风干装置分别位于清洗装置的两侧，所述清洗装置包括超声波清洗槽，所述超声波清洗槽的底部设有升降平台，所述升降平台上设有翻转机构，本发明结构简单，设计新颖，功能多样，增设的除尘装置能够先将晶圆片的表面杂质吸除，然后再送至清洗装置中清洗，清洗结束后，增设的风干装置能够去除晶圆片表面的水渍。CN115889328ACN115889328A权利要求书1/2页1.一种晶圆片表面金属杂质处理装置，包括除尘装置1、清洗装置2和风干装置3，所述除尘装置1和风干装置3分别位于清洗装置2的两侧，其特征在于：所述清洗装置2包括超声波清洗槽21，所述超声波清洗槽31的底部设有升降平台22，所述升降平台22上设有翻转机构23。2.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面金属杂质处理装置，其特征在于：所述翻转机构23包括安装框231，所述安装框231的底部通过加强筋固定在升降平台22上，所述安装框231内侧设有第一气缸232，所述第一气缸232的底部转动连接至安装框231的内底部，所述第一气缸232的顶部转动连接着翻转板233，所述翻转板233的底面上设有方形密封条234，所述方形密封条234与安装框231的框口相匹配，所述翻转板233的上表面设有晶圆片夹持机构24，所述翻转板233的两侧均设有两个延伸杆235，每侧所述的两个延伸杆235之间均横向设有圆柱杆236；所述安装框231的两侧均设有弧形卡槽237，两个所述圆柱杆236分别设置于相对应的弧形卡槽237内，每个所述弧形卡槽237外侧的安装框231上还设有第二气缸238，所述第二气缸238的活塞杆前端设有卡板239。3.根据权利要求2所述的一种晶圆片表面金属杂质处理装置，其特征在于：所述晶圆片夹持机构24包括固定板241，所述固定板241上设有多个U型夹片242，每个所述U型夹片242的两侧均设有一组相对应的弧形夹臂243，每侧的多个所述弧形夹臂243均统一固定于推板244上，所述推板244连接着第三气缸245。4.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面金属杂质处理装置，其特征在于：所述除尘装置1包括第一底座11，所述第一底座11上四周设有第一支撑杆12，四个所述第一支撑杆12顶部固定有第一安装板13，所述安装板13的下方设有多个吸尘头14，所述吸尘头14连接着吸尘器；所述第一底座11上设有第一机械臂15，所述第一机械臂15的前端安装有第一真空吸笔16，多个所述吸尘头14正对第一机械臂15；位于所述第一底座11的侧边设有第一放置台17。5.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面金属杂质处理装置，其特征在于：所述风干装置3包括第二底座31，所述第二底座31的四周设有第二支撑杆32，四个所述第二支撑杆32顶部固定有第二安装板33，所述第二安装板33的下方安装有风机34；所述第二底座31上设有第二机械臂35，所述第二机械臂35的前端安装有第二真空吸笔36，所述风机34正对第二机械臂35；位于所述第二底座31的侧边设有第二放置台37。6.根据权利要求1所述的一种晶圆片表面金属杂质处理装置，其特征在于：利用所述晶圆片表面金属杂质处理装置进行杂质处理，包括以下步骤：S1:将载有晶圆片的盒子竖着放置在第一放置台上，使其对着第一机械臂；S2:启动超声波清洗槽内的翻转机构，将翻转板朝着除尘装置方向竖起；S3:启动第一机械臂带动真空吸笔移动至第一放置台处，依次将盒内的晶圆片吸附后，移送至翻转板上的的U型夹片内，移送过程中晶圆片经过吸尘头时，会将其表面的杂质吸除；S4:然后再启动两侧的第三气缸伸展，此时两侧的弧形夹臂就会将晶圆片的边缘夹紧，2CN115889328A权利要求书2/2页再次启动翻转机构，使翻转板呈水平状设置；S5:然后再启动升降平台下降，带动整个翻转机构及其上方的晶圆片一起进入超声波清洗槽，在超声波清洗槽内清洗20‑30