一种用于晶圆生产环境的静电检测装置.pdf
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一种用于晶圆生产环境的静电检测装置.pdf
本发明涉及静电检测附属装置的技术领域,特别是涉及一种用于晶圆生产环境的静电检测装置;包括静电检测仪本体、连接导线和探枪,静电检测仪本体前侧壁设置有显示屏、控制键组和端口组,探枪上设置有探头;还包括前连接柱、把手、连接架、前转动柱、连接弹簧和后转动柱;还包括两组固定块、两组拉板、两组连接杆、两组套簧和两组连接板,两组固定块上均设置有通口;还包括四组螺栓、四组螺母、四组支腿和四组转动杆,四组转动杆一端均可转动设置有万向轮,四组转动杆另一端均设置有吸盘,四组支腿上均设置有第一通孔,四组转动杆上均设置有第二通孔,
一种用于晶圆检测的除尘装置.pdf
本发明公开了一种用于晶圆检测的除尘装置,包括检测箱、集尘柜、承载台和除尘机构,检测箱的正面设置有箱门,且检测箱内设置有除尘机构,除尘机构包括第一电机、转轴、安装板、限位滑轮、刷板、刷毛,第一电机安装在检测箱的内部顶面上,且第一电机的输出端通过转轴与安装板的一端连接,安装板通过伸缩组件与刷板连接,刷板位于安装板的正下方,且刷板的底部设置有刷毛,检测箱内的下方设置有用于晶圆检测的承载台,承载台为圆形结构,且承载台的半径与刷板的长度相等,承载台上均匀设置有多组的除尘孔;本发明以刷板为半径可以对承载台表面均匀除尘
一种用于晶圆表面瑕疵检测的装置与方法.pdf
本发明涉及半导体制造设备领域,尤其是涉及一种用于晶圆表面瑕疵检测的装置与方法,该装置包括主体部分和用以控制主体部分的控制单元,该主体部分包括:运动平台,其具有X轴和Y轴,X轴与Y轴定义一运动平面,Y轴可用以承载晶圆;第一Z轴,装设在X轴上并可相对于运动平面垂直运动;线阵相机,装设在第一Z轴上并通过第一Z轴调焦,用于晶圆表面瑕疵检测;第一光源,用来辅助线阵相机进行图像采集;第二Z轴,装设在X轴上并可相对于运动平面垂直运动;面阵相机,装设在第二Z轴上并通过第二Z轴调焦,用于晶圆表面瑕疵复查;第二光源,用来辅助
一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置.pdf
本发明涉及晶圆生产附属装置的技术领域,特别是涉及一种用于晶圆生产刻蚀的深度控制装置,其方便对晶圆刻蚀的深度进行控制调节操作,同时提高深度调节精确度,提高使用可靠性;并且提高刻蚀机在支撑板上的稳定性,提高实用性;包括刻蚀机和支撑板;包括放置板、左刻度板、右刻度板、左调节板、右调节板、左定位板、右定位板、左螺纹杆、右螺纹杆、左螺纹管、右螺纹管、左大齿轮、右大齿轮、左支撑轴、右支撑轴、左带动轴、右带动轴、左大锥齿轮、右大锥齿轮和四组定位滑柱;还包括左顶紧块、右顶紧块、压板、顶板、调节丝杠、上锁紧螺母和下锁紧螺母
一种用于晶圆生产加工的表面研磨装置.pdf
本发明涉及附属装置的技术领域,特别是涉及一种用于晶圆生产加工的表面研磨装置;其可以提高夹紧效果,可以不能适应不同大小的晶圆切片的夹紧,同时防止将晶圆切片在夹紧过程中被损坏;无需人工使用打磨砂盘对晶圆切片顶端表面进行打磨,节省人力,可以保证打磨面的水平度,提高打磨效果,提高实用性;包括工作台、四组支腿、固定盘、左弧形调节板、右弧形调节板、左弧形夹板、右弧形夹板、左调节螺栓、右调节螺栓、左限位圈、右限位圈、多组左缓冲弹簧、多组右缓冲弹簧、两组左螺纹管、两组左螺纹杆、两组右螺纹管、两组右螺纹杆、固定块、两组左限