一种用于晶圆生产加工的表面研磨装置.pdf
An****99
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一种用于晶圆生产加工的表面研磨装置.pdf
本发明涉及附属装置的技术领域,特别是涉及一种用于晶圆生产加工的表面研磨装置;其可以提高夹紧效果,可以不能适应不同大小的晶圆切片的夹紧,同时防止将晶圆切片在夹紧过程中被损坏;无需人工使用打磨砂盘对晶圆切片顶端表面进行打磨,节省人力,可以保证打磨面的水平度,提高打磨效果,提高实用性;包括工作台、四组支腿、固定盘、左弧形调节板、右弧形调节板、左弧形夹板、右弧形夹板、左调节螺栓、右调节螺栓、左限位圈、右限位圈、多组左缓冲弹簧、多组右缓冲弹簧、两组左螺纹管、两组左螺纹杆、两组右螺纹管、两组右螺纹杆、固定块、两组左限
晶圆研磨装置与晶圆研磨方法.pdf
一种晶圆研磨装置与晶圆研磨方法。晶圆研磨装置包括一支撑板、一修整垫以及一研磨轮。支撑板用以放置一晶圆于其上。修整垫设置邻近于支撑板。研磨轮能够在支撑板与修整垫之间移动,以研磨放置在支撑板上的晶圆或经由修整垫修整研磨轮的一研磨面。
一种晶圆研磨装置.pdf
本发明提供一种晶圆研磨装置,包括:研磨机构;导向轮,导向轮上形成有导向槽,晶圆的边缘可旋转地置于导向槽中;止抵组件包括两个止抵件、两个辊杆和两个静压阀,两个止抵件相对设置在晶圆的两侧且止抵晶圆的表面,两个止抵件在晶圆的轴向方向上可移动,每个辊杆的一端分别与对应的止抵件相连,静压阀内限定有腔室,腔室中设有可移动的阀塞以将腔室限定成第一腔室和第二腔室,每个辊杆的另一端与阀塞连接,辊杆可沿长度方向移动;稳压装置控制第一腔室中的压力等于预设压力值;检测器根据止抵件或辊杆的位移检测晶圆的厚度。本发明的研磨装置能够对
一种用于晶圆表面瑕疵检测的装置与方法.pdf
本发明涉及半导体制造设备领域,尤其是涉及一种用于晶圆表面瑕疵检测的装置与方法,该装置包括主体部分和用以控制主体部分的控制单元,该主体部分包括:运动平台,其具有X轴和Y轴,X轴与Y轴定义一运动平面,Y轴可用以承载晶圆;第一Z轴,装设在X轴上并可相对于运动平面垂直运动;线阵相机,装设在第一Z轴上并通过第一Z轴调焦,用于晶圆表面瑕疵检测;第一光源,用来辅助线阵相机进行图像采集;第二Z轴,装设在X轴上并可相对于运动平面垂直运动;面阵相机,装设在第二Z轴上并通过第二Z轴调焦,用于晶圆表面瑕疵复查;第二光源,用来辅助
一种用于晶圆表面涂布的旋涂装置.pdf
本发明公开了一种用于晶圆表面涂布的旋涂装置,其结构包括机体、防尘罩、支撑腿、控制开关、显示屏和电源线,通过在防尘罩内部下端左右水平相对设置了辅助顶出装置,通过控制开关启动驱动机构,驱动机构带动大齿轮进行转动,大齿轮带动第二活动块进行活动,第二活动块带动推杆进行活动,推杆带动承载盘进行活动,达到辅助顶出承载盘的效果,通过在第一活动块内中部设置了驱动机构,通过控制开关启动第二电机,第二电机带动第二转轴进行转动,第二转轴带动小齿轮进行转动,小齿轮带动大齿轮进行转动,大齿轮带动第二活动块进行活动,达到驱动第二活动