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(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115911136A(43)申请公布日2023.04.04(21)申请号202211455334.9(22)申请日2022.11.21(71)申请人捷捷半导体有限公司地址226000江苏省南通市崇川区苏通科技产业园区井冈山路6号(72)发明人朱明庄翔王志杰丁海燕(74)专利代理机构北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)11463专利代理师陈秋梦(51)Int.Cl.H01L29/861(2006.01)H01L29/06(2006.01)H01L27/02(2006.01)H01L21/329(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图5页(54)发明名称芯片结构及其制备方法(57)摘要本发明的实施例提供了一种芯片结构及其制备方法,半导体技术领域。芯片结构包括N型衬底、N型外延层、氧化硅层、多晶硅层和铝层,其中,N型外延层形成在N型衬底上;氧化硅层形成在N型外延层上,在氧化硅层上光刻出有源窗口、并贯穿至N型外延层;多晶硅层沉积在氧化硅层上以及有源窗口内,并在有源窗口内的多晶硅层上进行P型掺杂,并扩散穿透多晶硅层与N型外延层形成PN结、构成电压;铝层形成在多晶硅层上。芯片结构及其制备方法能够简化TVS芯片或ESD芯片的工艺流程,降低成本。CN115911136ACN115911136A权利要求书1/2页1.一种芯片结构,其特征在于,所述芯片结构包括:N型衬底(1);N型外延层(2),形成在所述N型衬底(1)上;氧化硅层(3),形成在所述N型外延层(2)上,在所述氧化硅层(3)上光刻出有源窗口(4)、并贯穿至所述N型外延层(2);多晶硅层(5),沉积在所述氧化硅层(3)上以及所述有源窗口(4)内,并在所述有源窗口(4)内的所述多晶硅层(5)上进行P型掺杂,并扩散穿透所述多晶硅层(5)与所述N型外延层(2)形成PN结(6)、构成电压;铝层(7),形成在所述多晶硅层(5)上。2.根据权利要求1所述的芯片结构,其特征在于,所述多晶硅层(5)的厚度为5000‑9000A。3.根据权利要求2所述的芯片结构,其特征在于,所述多晶硅层(5)的厚度为5000A。4.根据权利要求1所述的芯片结构,其特征在于,所述氧化硅层(3)的厚度为8000A。5.根据权利要求1所述的芯片结构,其特征在于,所述N型外延层(2)的电阻率为0.01‑0.04Ω·cm。6.一种芯片结构的制备方法,其特征在于,所述芯片结构的制备方法包括:在N型衬底(1)上形成N型外延层(2);在所述N型外延层(2)形成氧化硅层(3);在所述氧化硅层(3)上光刻出有源窗口(4)、并贯穿至所述N型外延层(2);在所述氧化硅层(3)上以及所述有源窗口(4)内沉积多晶硅层(5);在所述有源窗口(4)内的多晶硅层(5)上进行P型掺杂,并扩散穿透所述多晶硅层(5)与所述N型外延层(2)形成PN结(6)、构成电压;在所述多晶硅层(5)上形成铝层(7)。7.根据权利要求6所述的芯片结构的制备方法,其特征在于,所述在所述有源窗口(4)内的多晶硅层(5)上进行P型掺杂,并扩散穿透所述多晶硅层(5)与所述N型外延层(2)形成PN结(6)、构成电压的步骤包括:在所述有源窗口(4)内的所述多晶硅层(5)上进行P型掺杂,并扩散穿透所述多晶硅层(5)与所述N型外延层(2)形成PN结(6);去除所述多晶硅层(5)上方的P型杂质(03)。8.根据权利要求6所述的芯片结构的制备方法,其特征在于,所述在所述多晶硅层(5)上形成铝层(7)的步骤包括:在所述多晶硅层(5)和所述氧化硅层(3)上形成全覆盖的所述铝层(7);去除所述氧化硅层(3)上的铝层(7)部分,保留所述多晶硅层(5)上的铝层(7)部分。9.根据权利要求6所述的芯片结构的制备方法,其特征在于,所述在所述氧化硅层(3)上以及所述有源窗口(4)内沉积多晶硅层(5)的步骤包括:在所述氧化硅层(3)上以及所述有源窗口(4)内全面积沉积所述多晶硅层(5);刻蚀去除所述氧化硅层(3)上边缘位置的所述多晶硅层(5)的部分。10.根据权利要求6所述的芯片结构的制备方法,其特征在于,所述在所述有源窗口(4)内的多晶硅层(5)上进行P型掺杂,并扩散穿透所述多晶硅层(5)与所述N型外延层(2)形成2CN115911136A权利要求书2/2页PN结(6)、构成电压的步骤包括:在所述有源窗口(4)内对所述N型外延层(2)进行硼予扩,浓度为18‑22Ω/□;在所述有源窗口(4)内对所述N型外延层(2)进行硼再分布,条件为1000℃/30MIN。3CN115911136A说明书1/5页芯片结构及其制备方法技术领域[0001]本发明涉及半导体技术领域,具体而言,涉及一种芯片结构及其制备方法。背景技术[0002]半导体市场对TV