一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111733380A(43)申请公布日2020.10.02(21)申请号202010596206.0(22)申请日2020.06.28(71)申请人武汉华星光电半导体显示技术有限公司地址430079湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室(72)发明人李典虹苏长恒(74)专利代理机构深圳紫藤知识产权代理有限公司44570代理人李新干(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/24(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图3页(54)发明名称一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置(57)摘要本申请公开了一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置。该掩膜版组件包括框架，支撑网，至少两块掩膜版，以及至少一个遮掩条，遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在框架上，用于使框架产生预定的弹性形变，遮掩条设在两块相邻掩膜版之间的间隙处。本申请增加了至少一条遮掩条，只需要调整遮掩条的拉力就可以改善镀膜像素位置精度拉伸向整体尺寸精度，节约了掩膜版组件的制作成本。CN111733380ACN111733380A权利要求书1/1页1.一种掩膜版组件，其特征在于，所述掩膜版组件包括：框架；支撑网，具有网格镂空结构，所述支撑网固定连接在所述框架上；至少两块掩膜版，由所述支撑网支撑并固定连接在所述框架上；以及至少一个遮掩条，所述遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在所述框架上，用于使所述框架产生预定的弹性形变；其中，所述遮掩条设在两块相邻所述掩膜版之间的间隙处；至少两块所述掩膜版之间的至少一个间隙是由所述支撑网与所述遮掩条共同遮挡。2.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，当所述掩膜版数量为两块时，两块所述掩膜版之间的间隙由所述遮掩条和所述支撑网共同遮挡；当所述掩膜版数量多于两块时，所述遮掩条所在的间隙处由所述遮掩条和所述支撑网共同遮挡，其它相邻两块所述掩膜版之间的间隙由所述支撑网进行遮挡。3.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述框架呈中空的方形环结构。4.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述框架上设有凹槽，用于将所述支撑网嵌入固定连接在所述框架上。5.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述支撑网一体成型。6.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述支撑网包括多个第一支撑条和多个第二支撑条；所述第一支撑条和所述第二支撑条相互垂直固定连接成网格状镂空结构；所述第一支撑条用于遮挡两块相邻所述掩膜版之间的间隙；所述第二支撑条用于支撑所述掩膜版。7.根据权利要求1所述的掩膜版组件，其特征在于，所述遮掩条的数量为三个。8.一种权利要求1所述掩膜版组件的张网方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)将所述支撑网固定连接在所述框架上；(2)将所述遮掩条的两端以一定的拉力固定连接在所述框架上，使所述框架产生预定的弹性形变；(3)将所述掩膜版置于所述支撑网的上方使所述支撑网支撑所述掩膜版，并使所述遮掩条位于两块相邻的所述掩膜版之间的间隙处，定位好位置后将所述掩膜版的两端固定连接在所述框架上，并使至少两块所述掩膜版之间的至少一个间隙是由所述支撑网与所述遮掩条共同遮挡，获得预处理掩膜版组件；(4)对所述预处理掩膜版组件进行镀膜像素位置精度的检测；以及(5)根据检测结果调整所述遮掩条的拉力使框架的预定的弹性形变量，获得具有较高镀膜像素位置精度的掩膜版组件。9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在步骤(5)中，所述调整的方式为将原拉力大小的遮掩条替换成另一拉力大小的遮掩条。10.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1所述掩膜版组件。2CN111733380A说明书1/6页一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置技术领域[0001]本申请涉及蒸镀技术领域，尤其涉及金属掩膜技术领域，具体涉及一种掩膜版组件、张网方法及蒸镀装置。背景技术[0002]真空蒸镀，是指在真空条件下采用加热蒸发的方式蒸发有机材料并使之气化，并在玻璃基板表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀使用的掩膜版组件(MaskFrameAssembly，MFA)必须要有非常高的像素位置精度(PPA)才能使镀膜结果准确。MFA的制作过程称之为张网，是将精细金属掩膜版(FineMetalMask，FMM)在框架上进行定位并将其固定在框架上的过程。张网时，由于张网机预先对框架施加的作用力与掩膜版对框架的拉力(TensionForce)不匹配的原因，会导致精细金属掩膜版(FineMetalMask，FMM)拉伸向整体尺寸精度(TotalPitch，TP)会变差，而镀膜的PPA像素位置精度结果也往往会与张网的PPA像素位置精度存在一定的偏差，拉伸向的内缩或者外扩是其中的一种常见形式