基片处理装置和基片处理方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115938976A(43)申请公布日2023.04.07(21)申请号202210889984.8(22)申请日2022.07.27(30)优先权数据2021-1377792021.08.26JP(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本东京都(72)发明人玉田纯南田纯也(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司11322专利代理师龙淳刘芃茜(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/02(2006.01)权利要求书3页说明书13页附图12页(54)发明名称基片处理装置和基片处理方法(57)摘要本发明说明基片处理装置和基片处理方法，其在利用多种处理液的液处理部中进行基片处理时能够抑制从液处理部排出的排气流入与该排气所对应的独立排气管不同的独立排气管。基片处理装置包括：将种类不同的多个处理液分别供给到基片的表面的液处理部；和将从液处理部排出的排气排出到外部的排气部。排气部包括：包含第一部分和第二部分的主排气管；第一独立排气管；第二独立排气管；切换部；以及外气导入部。切换部包括：第一切换机构；第二切换机构；配置于主排气管中的第一部分与第二部分之间的第三切换机构；与第二部分连接以将外气导入第二部分的外气导入管；和配置于外气导入管的第四切换机构。CN115938976ACN115938976A权利要求书1/3页1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：液处理部，其将包含第一处理液和与所述第一处理液种类不同的第二处理液的多个处理液分别供给到基片的表面；以及排气部，其构成为能够将从所述液处理部排出的排气排出到外部，所述排气包括：伴随利用所述第一处理液进行的所述基片的处理而从所述液处理部排出的第一排气；和伴随利用所述第二处理液进行的所述基片的处理而从所述液处理部排出的第二排气，所述排气部包括：主排气管，其构成为能够供所述排气流通，并包括位于上游侧的第一部分和位于比所述第一部分靠下游侧的位置的第二部分；第一独立排气管，其构成为能够供所述第一排气流通；第二独立排气管，其构成为能够供所述第二排气流通；以及切换部，其构成为能够将所述主排气管与所述第一独立排气管和所述第二独立排气管中的一者有选择地连通，所述切换部包括：第一切换机构，其构成为配置于所述第一部分与所述第一独立排气管之间，能够切换第一连通状态和第一非连通状态，其中，所述第一连通状态是在从所述液处理部排出所述第一排气的情况下所述第一部分与所述第一独立排气管连通的状态，所述第一非连通状态是在从所述液处理部排出所述第一排气以外的所述排气的情况下所述第一部分与所述第一独立排气管不连通的状态；第二切换机构，其构成为配置于所述第二部分与所述第二独立排气管之间，能够切换第二连通状态和第二非连通状态，其中，所述第二连通状态是在从所述液处理部排出所述第二排气的情况下所述第二部分与所述第二独立排气管连通的状态，所述第二非连通状态是在从所述液处理部排出所述第二排气以外的所述排气的情况下所述第二部分与所述第二独立排气管不连通的状态；第三切换机构，其构成为配置于所述主排气管中的所述第一部分与第二部分之间，能够切换第一关闭状态和第一开放状态，其中，所述第一关闭状态是从所述液处理部排出所述第一排气的情况下截止所述第一排气向所述第二部分流通的状态，所述第一开放状态是在从所述液处理部排出所述第一排气以外的所述排气的情况下容许所述第一排气以外的所述排气向所述第二部分流通的状态；外气导入管，其与所述第二部分连接以将外气导入所述第二部分；以及第四切换机构，其构成为配置于所述外气导入管，能够切换第二开放状态和第二关闭状态，其中，所述第二开放状态是在从所述液处理部排出所述第一排气的情况下容许外气向所述第二部分导入的状态，所述第二关闭状态是在从所述液处理部排出所述第一排气以外的所述排气的情况下截止外气向所述第二部分导入的状态。2.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：所述多个处理液还包括与所述第一处理液和所述第二处理液种类不同的第三处理液，所述排气还包括伴随利用所述第三处理液进行的所述基片的处理而从所述液处理部排出的第三排气，所述排气部还包括构成为能够供所述第三排气流通的第三独立排气管，2CN115938976A权利要求书2/3页所述主排气管还包括位于比所述第三切换机构靠下游侧的第三部分，所述切换部还包括第五切换机构，所述第五切换机构构成为配置于所述第三部分与所述第三独立排气管之间，能够切换第三连通状态和第三非连通状态，其中，所述第三连通状态是在从所述液处理部排出所述第三排气的情况下所述第三部分与所述第三独立排气管连通的状态，所述第三非连通状态是在从所述液处理部排出所述第三排气以外的所述排气的情况下所述第三部分与所述第三独立排气管不