基片处理装置和基片处理方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111489986A(43)申请公布日2020.08.04(21)申请号202010074343.8(22)申请日2020.01.22(30)优先权数据2019-0124122019.01.28JP2019-1391132019.07.29JP(71)申请人东京毅力科创株式会社地址日本东京都(72)发明人松山健一郎(74)专利代理机构北京尚诚知识产权代理有限公司11322代理人龙淳刘芃茜(51)Int.Cl.H01L21/67(2006.01)H01L21/677(2006.01)权利要求书4页说明书23页附图19页(54)发明名称基片处理装置和基片处理方法(57)摘要本发明涉及基片处理装置和基片处理方法。基于时间参数、构成多单元的单元的所需基片停留时间和循环时间，决定多单元中的作为基片的输送目标的单元的个数，以及决定停留循环数，其中，时间参数是，与为了将送入处理区块的基片输送到送出单元所需的主输送装置的输送工序数对应的基片的输送时间、或者通过用包括多单元并且以能够对基片进行多个步骤的处理的方式设置于处理区块的单元组之中的、相同步骤中的可使用单元数除所需基片停留时间而对于各步骤得到的时间中的最大时间。本发明在将单元的所需停留时间彼此不同的多个批次的基片依次输送并进行处理时，能够抑制基片输送装置的负荷来提高装置的处理能力。CN111489986ACN111489986A权利要求书1/4页1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：处理区块，其从上游侧的单元向下游侧的单元依次输送基片来进行处理；送入送出用输送装置，其在容纳所述基片的承载器与所述处理区块之间交接所述基片，将所述基片送入、送出该处理区块；送出单元，载置由所述送入送出用输送装置从所述处理区块送出的已处理的所述基片；多单元，包括所述处理区块中的所述基片的输送顺序彼此相同的所述送出单元的上游侧的多个单元；和主输送装置，其具有能够彼此独立地相对于各单元进退的多个基片保持部，用于在设置于所述处理区块的输送通路中循环以在单元间交接所述基片，将所述主输送装置在所述输送通路中循环一次的时间设为循环时间，所述控制部进行第1输送时间表的设定，该第1输送时间表的设定包括如下处理：基于时间参数、构成所述多单元的单元的所需基片停留时间和所述循环时间，决定所述多单元中的作为所述基片的输送目标的单元的个数的处理；和决定停留循环数的处理，该停留循环数是对所述多单元送入基片后至送出该基片为止所述主输送装置循环的次数，其中，所述时间参数是，与为了将送入所述处理区块的基片输送到所述送出单元所需的所述主输送装置的输送工序数对应的基片的输送时间、或者通过用包括所述多单元并且以能够对所述基片进行多个步骤的处理的方式设置于所述处理区块的单元组之中的、相同步骤中的可使用单元数除该步骤的单元的所需基片停留时间而对于各步骤的的时间中的最大时间。2.如权利要求1所述的基片处理装置，其特征在于：所述多单元中的作为所述基片的输送目标的单元的个数，被决定为与将该单元的所需基片停留时间除以所述时间参数而得的值对应的值，基于该单元的个数决定所述停留循环数。3.如权利要求1或2所述的基片处理装置，其特征在于：所述时间参数，是所述基片的输送时间和对于所述各步骤得到的时间中的最大时间之中的、较大的时间。4.如权利要求1或2所述的基片处理装置，其特征在于：所述处理区块由分别包括所述送出单元、所述单元组和所述主输送装置且分别能够对所述基片进行相同处理的N个单位区块构成，所述基片的输送时间是与所述输送工序数和所述N对应的时间，其中N为整数，所述相同步骤中的可使用单元数，是各单位区块间的相同步骤中的可使用单元的合计数，作为所述基片的输送目标的单元的个数和所述停留循环数是对每个所述单位区块决定的。5.如权利要求4所述的基片处理装置，其特征在于：所述控制部，基于将所述各步骤中的所述单元的所需基片停留时间除以所述可使用单元数而得的2CN111489986A权利要求书2/4页值在各个所述单位区块的最大值、和所述时间参数，来决定所述各单位区块间的所述基片的送入个数的比例。6.如权利要求5所述的基片处理装置，其特征在于：设置于所述各单位区块的所述多单元中的作为所述基片的输送目标的单元的个数，被决定为与将该单元的所需基片停留时间除以所述时间参数而得的值对应的值，所述控制部，使用作为所述基片的输送目标的单元的个数、所述单元的所需基片停留时间、和所述循环时间，并且基于与送入个数的比例的顺序对应的运算式，决定各单位区块的所述多单元中的所述基片的停留循环数。7.如权利要求6所述的基片处理装置，其特征在于：所述N个单位区块包括第1单位区块、第2单位区块，在第1单位区块与第2单位区块相比，所述基片