非接触式基板载具及其基板垂直承载装置.pdf
玄静****写意
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非接触式基板载具及其基板垂直承载装置.pdf
一种非接触式基板载具,用以吸附一基板,包括:一第一板状构件、一第二板状构件以及一吸引构件,其中第一、第二板状构件平行设置,且第一板状构件上的第一通孔与第二板状构件上的第二通孔形成一通道供吸引构件设置;载具自吸引构件的一进气孔通入气体并吹向基板使基板的主动面与第一表面形成一间隙,基板至少一侧边受第一板状构件上的多个限位凸部限位。本发明在不接触基板表面的前提下,辅以将最小支撑点设置于基板侧边进行限位,以避免破坏基板的表面。一种包含上述非接触式基板载具的基板垂直承载装置亦于此处被提出。
基板载具、基板载具阵列和气相沉积装置.pdf
本发明实施例提供了一种基板载具、基板载具阵列和气相沉积装置,其中所述基板载具包括:第一载板;第二载板,所述第二载板与所述第一载板的外轮廓相同,所述第二载板为中空框架状,所述第二载板在垂直于所述第一载板的方向上与所述第一载板平行重叠设置;支撑部,设置在所述第一载板与所述第二载板之间,以使所述第一载板与所述第二载板相互间隔,所述支撑部与所述第一载板和所述第二载板之间形成有适于取放基板的开口。
用于使基板同时旋转和悬浮的非接触式基板载体.pdf
公开了用于在基板的沉积和/或蚀刻期间使基板(130)同时旋转和悬浮的系统(100)和对应的方法。系统(100)包括位于基板(130)下方的载体(110),其中,载体(110)包括至少两个气体入口(110)以向基板(130)的底表面提供气体来使基板悬浮在载体上方。系统进一步包括至少一个保持构件(120),该保持构件连接到载体(110)并且被构造成限制基板(130)的水平漂移。
基板载具及其硒化制程系统.pdf
本发明公开了一种基板载具用来运载多个背电极基板至一炉腔内,每一背电极基板上形成有一前趋物层,所述炉腔用来提供一制程气体以与所述前趋物层反应形成一光电转换层在每一背电极基板上,所述基板载具包括一耐热金属架体及一第一保护层。所述耐热金属架体具有多个承载槽,用来承载所述多个背电极基板。所述第一保护层形成在所述耐热金属架体上,用来防止所述耐热金属架体发生化学反应。透过基板载具具有耐热金属架体并在耐热金属架体上形成保护层的设计,所述基板载具可具有抗高温及抗特定气体反应腐蚀的特性。
使用比例式热流体输送系统的基板载具.pdf
描述了一种基板载具,该基板载具使用比例式热流体输送系统。在一个示例中,装置包括热交换器,以向基板载具的流体通道提供热流体并且接收来自流体通道的热流体,流体通道中的热流体用以在基板处理期间控制载具的温度。比例阀控制从热交换器至流体通道的热流体的流速。温度控制器接收来自载具的热传感器的测得温度,且响应于该测得温度而控制比例阀以调整流速。