投射曝光设备及减小投射曝光设备的部件的来自动态加速度的形变的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN109804315A(43)申请公布日2019.05.24(21)申请号201780062049.1(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所(22)申请日2017.09.1411105代理人王蕊瑞(30)优先权数据102016219330.92016.10.06DE(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日G02B7/182(2006.01)2019.04.04(86)PCT国际申请的申请数据PCT/EP2017/0731092017.09.14(87)PCT国际申请的公布数据WO2018/065183DE2018.04.12(71)申请人卡尔蔡司SMT有限责任公司地址德国上科亨(72)发明人S.亨巴彻E.洛普斯特拉J.库格勒B.古珀特权利要求书2页说明书4页附图3页(54)发明名称投射曝光设备及减小投射曝光设备的部件的来自动态加速度的形变的方法(57)摘要本发明涉及一种半导体光刻的投射曝光系统(1)，包括至少一个部件(22)和支撑装置，该支撑装置具有在部件(22)的至少一个支撑点(27)上作用的至少一个支撑致动器(23)，使得部件(22)的形变减小，其中支撑装置具有致动至少一个支撑致动器(23)的控制单元(28)，其中控制单元(28)配置为在动态加速度作用在部件(22)上期间致动支撑致动器(23)。本发明还涉及一种减小半导体光刻的投射曝光系统的由动态加速度引起的形变的方法。CN109804315ACN109804315A权利要求书1/2页1.一种半导体光刻的投射曝光设备(1)，包括：-至少一个部件(22)，-支撑装置，其具有在所述部件(22)中的至少一个支撑位置(27)作用、以使得所述部件(22)的形变减小的至少一个支撑致动器(23)，其中所述支撑装置包括触发所述至少一个支撑致动器(23)的控制单元(28)，其特征在于，所述控制单元(28)配置为在动态加速度作用在所述部件(22)上的事件中触发所述支撑致动器(23)。2.根据权利要求1所述的投射曝光设备(1)，其特征在于，存在定位所述部件(22)的至少一个位置致动器(24)，并且在于当所述位置致动器(24)被触发时，所述支撑致动器(23)作用在所述部件(22)的支撑位置(27)。3.根据权利要求1或2所述的投射曝光设备(1)，其特征在于，存在至少一个传感器(25)以在动态加速度发生时确定所述部件(22)的形变，并且所述传感器(25)连接到控制单元(28)，所述控制单元(28)根据由所述传感器(25)测量的参数中的至少一个的函数来触发支撑致动器(23)。4.根据前述权利要求中的任一项所述的投射曝光设备(1)，其特征在于，所述控制单元(28)适合于基于所述部件(22)的点的已知轨迹来触发所述支撑致动器(23)。5.根据前述权利要求中的任一项所述的投射曝光设备(1)，其特征在于，存在至少一个加速度传感器(29)以测量所述部件(22)的点处的加速度，并且所述控制单元(28)适合于基于所测量的加速度值来触发所述支撑致动器(23)。6.根据前述权利要求中的任一项所述的投射曝光设备(1)，其特征在于，所述至少一个支撑致动器(23)布置在所述投射曝光设备(1)的保持结构(30)上。7.根据权利要求6所述的投射曝光设备(1)，其特征在于，所述保持结构(30)是力框架、传感器框架或者辅助框架。8.根据前述权利要求中的任一项所述的投射曝光设备(1)，其特征在于，所述部件(22)是反射镜。9.根据权利要求1-7中的任一项所述的投射曝光设备(1)，其特征在于，所述部件是传感器框架(30)的部分。10.一种方法，用于减小半导体光刻的投射曝光设备(1)的部件(22)的来源于动态加速度的形变，2CN109804315A权利要求书2/2页其特征在于，在动态加速度作用在所述部件上的事件中，至少一个支撑致动器(23)作用在所述部件(22)的支撑位置(27)。11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，存在定位所述部件(22)的至少一个位置致动器(24)，并且在于当所述位置致动器(24)被触发时，所述支撑致动器(23)作用在所述部件(22)的支撑位置(27)。12.根据权利要求10或11所述的方法，其特征在于，根据由所述传感器(25)测量的至少一个参数的函数来触发所述支撑致动器(23)。13.根据权利要求10-12中的任一项所述的方法，其特征在于，基于所述部件(22)的点的已知轨迹来触发所述支撑致动器(23)。14.根据权利要求10-13中的任一项所述的方法，其特征在于，基于所测量的加速度值来触发所述支撑致动器(23)。3CN109804315A说明书1/4页投射曝光设备及减小投射曝光设