特别是在微光刻投射曝光设备中的组件.pdf
一条****丹淑
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相关资料
特别是在微光刻投射曝光设备中的组件.pdf
本发明关于组件,特别是在微光刻投射曝光设备中。根据一个方面,该组件包括光学元件(120)以及接头配置,所述接头配置用于机械承载该光学元件(120),其中该接头配置包括固定在该光学元件(120)上的至少一个连接元件(110、210、310、410、510),并且其中该连接元件(110、310、410)的质量(m<base:Sub>pin</base:Sub>)分布在其长度(L)上,如此与质量和长度相同的连接元件相比,该连接元件的转动惯量(I)增加,其中质量均匀分布在长度上。
半导体光刻的投射曝光设备.pdf
本发明涉及一种用于半导体光刻的投射曝光设备(1),其包括光学校正元件(20)和用于通过电磁加热辐射(44.x)至少部分地辐照校正元件(20)的光学活性区域(22)的构件,其中光学校正元件(20)在光学活性区域(22)外部配备有至少一个电加热元件(25.x)。
用于控制微光刻投射曝光系统中元件温度的设备和方法.pdf
本发明涉及一种微光刻投射曝光系统,特别是用于DUV范围(400)或EUV范围(100)的微光刻投射曝光系统,包括照明单元(102;402)和具有至少一个元件(370,372,380,382,390,396,397,399,391,392,393,394,398,451,930,1010,1012,1014)的投射镜头(104,340,640;404),该至少一个元件至少区域性地被至少一个温度控制流体管线(302,304,306,308,310,452,476,486,602,919,921,1007)穿透
投射曝光设备及减小投射曝光设备的部件的来自动态加速度的形变的方法.pdf
本发明涉及一种半导体光刻的投射曝光系统(1),包括至少一个部件(22)和支撑装置,该支撑装置具有在部件(22)的至少一个支撑点(27)上作用的至少一个支撑致动器(23),使得部件(22)的形变减小,其中支撑装置具有致动至少一个支撑致动器(23)的控制单元(28),其中控制单元(28)配置为在动态加速度作用在部件(22)上期间致动支撑致动器(23)。本发明还涉及一种减小半导体光刻的投射曝光系统的由动态加速度引起的形变的方法。
对胶体球光刻中单层胶体晶体曝光特性的研究.docx
对胶体球光刻中单层胶体晶体曝光特性的研究胶体球光刻是一种常用于制备微纳米结构的重要方法,其在材料科学、物理化学和光学等领域都有广泛的应用。研究胶体球光刻中单层胶体晶体的曝光特性,对于深入了解胶体球光刻机制、优化工艺参数以及设计制备高级功能表面具有重要意义。本论文将从胶体球光刻的原理和应用入手,综述单层胶体晶体曝光特性的研究进展,并探讨其潜在应用。首先,我们来了解一下胶体球光刻的基本原理。胶体球光刻是通过利用胶体球阵列作为模板,利用紫外光对待刻蚀材料进行照射,形成微纳米结构的技术。其原理可以简单地分为三个步