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用于控制微光刻投射曝光系统中元件温度的设备和方法.pdf

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本发明涉及一种微光刻投射曝光系统,特别是用于DUV范围(400)或EUV范围(100)的微光刻投射曝光系统,包括照明单元(102;402)和具有至少一个元件(370,372,380,382,390,396,397,399,391,392,393,394,398,451,930,1010,1012,1014)的投射镜头(104,340,640;404),该至少一个元件至少区域性地被至少一个温度控制流体管线(302,304,306,308,310,452,476,486,602,919,921,1007)穿透,该至少一个温度控制流体管线被提供用于传导温度控制流体以控制所述元件的温度,其中温度控制流体管线(302,304,306,308,310,452,476,486,602,919,921,1007)连接到至少一个温度控制流体储存容器(470,480,615,515,516,519,460,920,1020),并且其中用于控制温度控制流体的温度的至少一个温度控制元件(702,704,706,906,916,1006)被设置在温度控制流体管线(302,304,306,308,310,452,476,486,602,919,921,1007)上或温度控制流体管线中,其中至少两个元件(370,372,380,382,390,396,397,399,391,392,393,394,398,451,930,1010,1012,1014)独立地被各自单独的至少一个温度控制流体管线(302,304,306,308,310,452,476,486,602,919,921,1007)穿透,或者至少一个元件(370,372,380,382,390,396,397,399,391,392,393,394,398,451,930,1010,1012,1014)的至少两个不同区域独立地被各自单独的至少一个温度控制流体管线(302,304,306,308,310,452,476,486,602,919,921,1007)穿透,或者至少两个元件(370,372,380,382,390,396,397,399,391,392,393,394,398,451,930,1010,1012,1014)被温度控制流体管线(302,304,306,308,310,452,476,486,602,919,921,1007)穿透。本发明还涉及一种用于控制微光刻投射曝光系统(300,400)的至少一个元件的温度的方法。