定位装置、光刻装置和物品制造方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115933321A(43)申请公布日2023.04.07(21)申请号202211187954.9(22)申请日2022.09.28(30)优先权数据2021-1649352021.10.06JP(71)申请人佳能株式会社地址日本东京(72)发明人金子慎也(74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司11038专利代理师刘杨(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)G03F7/00(2006.01)H01L21/027(2006.01)权利要求书2页说明书7页附图12页(54)发明名称定位装置、光刻装置和物品制造方法(57)摘要本发明提供定位装置、光刻装置和物品制造方法。定位装置具有：基板支承部，通过对基板的下表面喷出气体而使所述基板浮起，从而以非接触状态支承所述基板；多个吸引保持部，对由所述基板支承部以非接触状态支承的所述基板的下表面进行吸引，从而限制所述基板向与基板表面平行的方向的位移；支承构件，支承所述多个吸引保持部；以及旋转机构，通过使所述支承构件绕与所述基板表面交叉的轴旋转，从而不使所述基板支承部旋转，而借助所述多个吸引保持部使所述基板旋转。CN115933321ACN115933321A权利要求书1/2页1.一种定位装置，其特征在于，该定位装置具有：基板支承部，通过对基板的下表面喷出气体而使所述基板浮起，从而以非接触状态支承所述基板；多个吸引保持部，对由所述基板支承部以非接触状态支承的所述基板的下表面进行吸引，从而限制所述基板向与基板表面平行的第一方向的位移；支承构件，支承所述多个吸引保持部；以及旋转部，通过使所述支承构件绕与所述基板表面交叉的轴旋转，从而不使所述基板支承部旋转，而借助所述多个吸引保持部使所述基板旋转。2.根据权利要求1所述的定位装置，其特征在于，所述多个吸引保持部被配置在从所述支承构件的旋转中心离开的多个位置。3.根据权利要求2所述的定位装置，其特征在于，所述支承构件是在从上方观察所述基板支承部时的俯视时通过所述基板支承部的中心且沿所述第一方向延伸的长条构件。4.根据权利要求1所述的定位装置，其特征在于，所述多个吸引保持部分别具有通过气体的吸引而与所述基板的下表面接触的接触构件，所述接触构件构成为追随所述基板向与所述基板表面交叉的第二方向的位移而位移。5.根据权利要求4所述的定位装置，其特征在于，所述多个吸引保持部分别具有使所述接触构件与所述基板的下表面接触的致动器。6.根据权利要求4所述的定位装置，其特征在于，该定位装置还具有驱动所述支承构件以使所述接触构件与所述基板的下表面接触的致动器。7.根据权利要求1所述的定位装置，其特征在于，该定位装置还具有使所述基板向所述第一方向移动的驱动机构，与利用所述驱动机构进行的所述基板的移动并行地使所述支承构件旋转。8.根据权利要求7所述的定位装置，其特征在于，该定位装置还具有配置在所述支承构件的下方的固定构件，所述旋转部被配置成固定在所述固定构件上之并使所述支承构件旋转，该定位装置还具有气垫，该气垫配置在所述固定构件之上，相对于所述支承构件的下表面喷出气体，所述气垫喷出气体，在所述支承构件与所述气垫为非接触状态或摩擦阻力减小的状态下使所述支承构件旋转。9.根据权利要求8所述的定位装置，其特征在于，所述基板支承部进一步构成为，吸引所述基板的下方的气体而以接触状态支承所述基板，所述气垫进一步构成为，吸引所述支承构件的下方的气体而以接触状态支承所述支承构件，在所述支承构件的旋转结束后，所述基板支承部切换为以所述接触状态支承所述基板，所述气垫切换为以所述接触状态支承所述支承构件。2CN115933321A权利要求书2/2页10.一种光刻装置，其特征在于，该光刻装置具备权利要求1至9中任一项所述的定位装置，该光刻装置构成为，将原版的图案转印到由所述定位装置定位了的基板上。11.根据权利要求10所述的光刻装置，其特征在于，该光刻装置构成为曝光装置或压印装置。12.一种物品制造方法，其特征在于，该物品制造方法具有：使用权利要求10所述的光刻装置将图案转印到基板上的工序；以及对转印有所述图案的基板进行加工的工序，该物品制造方法通过被加工了的所述基板来制造物品。3CN115933321A说明书1/7页定位装置、光刻装置和物品制造方法技术领域[0001]本发明涉及定位装置、光刻装置和物品制造方法。背景技术[0002]在曝光装置等光刻装置中，要求高精度且高速地进行基板的位置控制。随着近年来的基板的大型化、薄型化，基板所产生的形变在至今为止不能再忽视。基板的形变在基板搬送时产生，在将基板载置于基板载置部之后，或者在载置后吸附基板之后也可能残留。如果在基板产生形变的状态下对基板进行曝光，则曝光结果也