定位设备、光刻设备和物品制造方法.pdf
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定位设备、光刻设备和物品制造方法.pdf
本发明提供了定位设备、光刻设备和物品制造方法。定位设备包括引导件、能够在被引导件引导的同时沿第一方向移动的可动构件、和被构造成沿第一方向驱动可动构件的驱动器。驱动器包括沿第一方向延伸的进给螺杆、被构造成与进给螺杆螺纹地接合并且随着进给螺杆的旋转而沿第一方向移动的螺母、和被构造成连接螺母与可动构件的连接装置。连接装置包括中空杆,所述中空杆带有连接至可动构件的一端和连接至螺母的另一端,并且进给螺杆被插入至中空杆的中空部分中。
定位装置、光刻装置和物品制造方法.pdf
本发明提供定位装置、光刻装置和物品制造方法。定位装置具有:基板支承部,通过对基板的下表面喷出气体而使所述基板浮起,从而以非接触状态支承所述基板;多个吸引保持部,对由所述基板支承部以非接触状态支承的所述基板的下表面进行吸引,从而限制所述基板向与基板表面平行的方向的位移;支承构件,支承所述多个吸引保持部;以及旋转机构,通过使所述支承构件绕与所述基板表面交叉的轴旋转,从而不使所述基板支承部旋转,而借助所述多个吸引保持部使所述基板旋转。
光刻设备、光刻投影设备和器件制造方法.pdf
本发明涉及一种光刻设备,包括:‑基部框架(10),适于将所述光刻设备(1)安装在支撑表面(9)上;‑投影系统(20),所述投影系统包括:‑力框架(30),‑光学元件(21),所述光学元件能够相对于所述力框架移动,‑传感器框架(40),所述传感器框架与所述力框架分开,‑至少一个传感器,适于监测所述光学元件,包括安装到所述传感器框架上的至少一个传感器元件(25),‑力框架支撑件(31),适于支撑在所述基部框架上的力框架,‑中间框架(45),所述中间框架与所述力框架分开,‑传感器框架联接器(41),适于将所述传
光刻设备和器件制造方法.pdf
描述了一种表征多个衬底的形变的方法。该方法包括以下步骤:‑针对多个n个不同对准测量参数λ并且针对多个衬底测量对准标记的位置;‑将位置偏差确定为n个对准标记位置测量值与标称对准标记位置之间的差值;‑将位置偏差分组成数据集;‑确定平均数据集;‑从数据集中减去平均数据集以获取多个可变数据集;‑对可变数据集执行盲源分离方法,由此将可变数据集分解为表示可变数据集的主成分的特征晶片集合;‑将特征晶片集合细分成标记形变特征晶片集合和衬底形变特征晶片集合。
光刻设备和制造器件的方法.pdf
使用EUV辐射的光刻设备具有被配置用于提供科勒照射的照射器。照射器包括具有多个可独立导向的反射器的场反射镜(422)和具有多个光瞳琢面(4241‑1至4241‑M)的光瞳反射镜(424),其中可独立导向的反射器被分成多组相邻的可独立导向的反射器、以形成虚拟场琢面(50),光瞳琢面投影虚拟场琢面的像、以填充照射场(IS)。可独立导向的反射器被控制在非激活状态和至少一个激活状态之间,以便控制传送至衬底的剂量。