掩模组件、掩模框架以及掩模支撑架.pdf
波峻****99
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掩模组件、掩模框架以及掩模支撑架.pdf
本发明公开了一种掩模组件、掩模框架以及掩模支撑架,所述掩模组件包括掩模框架和掩模支撑架;所述掩模框架包括至少一个第一连接部;所述掩模支撑架包括至少一个第二连接部;所述掩模框架和所述掩模支撑架通过所述第一连接部和所述第二连接部可拆卸连接。本发明掩模组件包括可拆卸连接的掩模框架和掩模支撑架,在更换掩模组件时,由于掩模框架尺寸没有改变,掩模框架可以直接再次利用,只需更换掩模支撑架即可。本发明能够实现掩模框架多次循环使用,降低掩模框架的替换率,降低生产成本。
掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法.pdf
本申请实施例公开一种掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法。该掩模板的一具体实施方式包括:该掩模板形成在掩模框架上,掩模板的与掩模框架的固接的环形区域具有多个镂空部。该实施方式通过在掩模板与掩模框架的固接区域形成多个镂空部,可减小掩模板与掩模框架的接触面积,从而方便对掩模板与掩模框架之间的药液残留进行处理,使得药液残留的情况大幅度降低,保证了蒸镀器件的寿命及性能;同时,该设计还降低了掩模板组件的清洗周期时间,提高了掩模板组件的稼动率。
掩模单元及具有该掩模单元的掩模板组件.pdf
本发明提供了一种掩模单元及具有该掩模单元的掩模组件,其中所涉及的掩模单元包括镀膜区,镀膜区具有多个供蒸镀成型像素的蒸镀开口,掩模单元还包括第一辅助区,第一辅助区具有邻接镀膜区至少一侧边设置的第一侧边部,每一第一侧边部包括一排由该侧边部内侧向外侧延伸形成的第一开口,第一开口于其延伸形成方向上的宽度尺寸逐渐减小;本发明掩模单元中的镀膜区通过第一辅助区与其周边区域连接,基于第一辅助区中第一开口的渐变形态,可以有效降低掩模单元镀膜区与其周边区域交界位置处的折伤概率;且由于第一辅助区的应力释放作用,在掩模单元张紧过
掩模的制造方法、掩模及框架一体型掩模.pdf
本发明涉及掩模的制造方法、掩模及框架一体型掩模。本发明的掩模的制造方法包括以下步骤:(a)在金属片材的一面形成被图案化的第一绝缘部;(b)在金属片材的一面通过湿蚀刻形成预定深度的第一掩模图案;(c)至少在第一掩模图案内填充第二绝缘部;(d)通过烘焙使第二绝缘部的至少一部分挥发;(e)在第一绝缘部的上部进行曝光,并只残留位于第一绝缘部的垂直下部的第二绝缘部;以及(f)在金属片材的一面进行湿蚀刻,以形成从第一掩模图案贯穿金属片材的另一面的第二掩模图案。
光掩模坯、光掩模以及光掩模制造方法.pdf
本发明提供一种不附着颗粒的光掩模及其制造方法。在相移层(11)上层叠粘接层(12)、刻蚀停止层(13)、遮光层(14),在利用刻蚀液部分地对遮光层(14)进行刻蚀时,利用刻蚀停止层(13)阻止刻蚀的进行,然后,利用氧等离子体除去在遮光层(14)上形成的开口底面的刻蚀停止层。用抗蚀剂覆盖成为相移区域的开口(24),利用刻蚀液除去成为透光区域的开口底面的相移区域(11)。由残留有遮光层(14)的部分形成遮光区域,得到光掩模。将各层(11)~(14)全部形成之后,进行使用了刻蚀液的刻蚀,所以,不存在颗粒的附着。