掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112962056A(43)申请公布日2021.06.15(21)申请号202110141766.1(22)申请日2021.02.02(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人成都京东方光电科技有限公司(72)发明人谢飞宋裕斌吴建鹏杨博文尚钰东李荣辉刘远洋刘番田昊楚志伟(74)专利代理机构北京正理专利代理有限公司11257代理人李远思(51)Int.Cl.C23C14/04(2006.01)C23C14/24(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图4页(54)发明名称掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法(57)摘要本申请实施例公开一种掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法。该掩模板的一具体实施方式包括：该掩模板形成在掩模框架上，掩模板的与掩模框架的固接的环形区域具有多个镂空部。该实施方式通过在掩模板与掩模框架的固接区域形成多个镂空部，可减小掩模板与掩模框架的接触面积，从而方便对掩模板与掩模框架之间的药液残留进行处理，使得药液残留的情况大幅度降低，保证了蒸镀器件的寿命及性能；同时，该设计还降低了掩模板组件的清洗周期时间，提高了掩模板组件的稼动率。CN112962056ACN112962056A权利要求书1/1页1.一种掩模板，该掩模板形成在掩模框架上，其特征在于，所述掩模板的与所述掩模框架的固接的环形区域具有多个镂空部。2.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，多个所述镂空部的个数少于掩模板对应面板部分的开口个数。3.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，多个所述镂空部沿所述环形区域均匀分布。4.根据权利要求3所述的掩模板，其特征在于，所述环形区域包括两相对设置的第一边侧以及两相对设置的第二边侧，其中，位于第一边侧的多个镂空部均匀分布以及位于第二边侧的多个镂空部均匀分布。5.根据权利要求4所述的掩模板，其特征在于，位于两第一边侧上的多个所述镂空部呈对称设置；位于两第二边侧上的多个所述镂空部呈对称设置。6.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，位于两第一边侧上的多个所述镂空部结构尺寸相同；位于两第二边侧上的多个所述镂空部结构尺寸相同。7.根据权利要求1所述的掩模板，其特征在于，沿着所述镂空部的靠近镂空区域的边缘与所述掩模框架进行焊接。8.根据权利要求4所述的掩模板，其特征在于，所述镂空部的镂空区域的形状为矩形。9.根据权利要求7所述的掩模板，其特征在于，所述镂空部与所述掩模框架焊接形成的焊接点位的密度为每1cm形成3‑7个。10.一种掩模板组件，其特征在于，包括如权利要求1‑7中任一项所述的掩模板和掩模框架。11.根据权利要求10所述的掩模板组件，其特征在于，所述掩模框架的对应于与所述镂空部的位置形成有框架镂空部。12.一种如权利要求10所述的掩模板组件的制备方法，其特征在于，包括：在所述掩模板的与所述掩模框架的固接的环形区域刻蚀形成多个镂空部；将所述掩模板与所述掩模框架进行对位焊接以形成所述掩模板组件。13.一种如权利要求11所述的掩模板组件的制备方法，其特征在于，包括：在所述掩模板的与所述掩模框架的固接的环形区域刻蚀形成多个镂空部；在所述掩模框架的对应于与所述镂空部的位置刻蚀形成框架镂空部；将所述掩模板与所述掩模框架进行对位焊接以形成所述掩模板组件。2CN112962056A说明书1/6页掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法技术领域[0001]本申请涉及显示技术领域。更具体地，涉及一种掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法。背景技术[0002]蒸镀使用的通用掩模板，常被用在显示器件蒸镀通用层有机材料或无机材料上，掩模板在经过特定药液清洗后，可以进行反复使用。而清洗过程中，需要经过几次有机溶剂药液将掩模板上的有机材料溶解，然后进行干燥处理才能再次使用。在这一过程中，一旦掩模板上存在药液残留，那么在使用其进行蒸镀的过程中，就会影响蒸镀器件的寿命性能。[0003]但是，掩模板与掩模框架之间由于焊点的支撑，在掩模板与掩模框架固接区域形成一定的间隙，无法紧密贴合，如此，在实际的清洗工艺里，干燥使用的空气风刀无法处理夹缝中。发明内容[0004]本申请的目的在于提供一种掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法，以解决现有技术存在的问题中的至少一个。[0005]为达到上述目的，本申请采用下述技术方案：[0006]本申请第一方面提供了一种掩模板，该掩模板形成在掩模框架上，所述掩模板的与所述掩模框架的固接的环形区域具有多个镂空部。[0007]本申请第一方面提供的掩模板，通过在掩模板与掩模框架的固接区域形成多个镂空部，可减小掩模板与掩模框架的接触面积，从而方便对掩模板与掩模框架之间的药液残留进行处理，使得药液残留