掩模单元及具有该掩模单元的掩模板组件.pdf
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相关资料
掩模单元及具有该掩模单元的掩模板组件.pdf
本发明提供了一种掩模单元及具有该掩模单元的掩模组件,其中所涉及的掩模单元包括镀膜区,镀膜区具有多个供蒸镀成型像素的蒸镀开口,掩模单元还包括第一辅助区,第一辅助区具有邻接镀膜区至少一侧边设置的第一侧边部,每一第一侧边部包括一排由该侧边部内侧向外侧延伸形成的第一开口,第一开口于其延伸形成方向上的宽度尺寸逐渐减小;本发明掩模单元中的镀膜区通过第一辅助区与其周边区域连接,基于第一辅助区中第一开口的渐变形态,可以有效降低掩模单元镀膜区与其周边区域交界位置处的折伤概率;且由于第一辅助区的应力释放作用,在掩模单元张紧过
淀积掩模和具有该淀积掩模的掩模组件.pdf
本发明涉及淀积掩模和具有该淀积掩模的掩模组件。本发明公开了一种能够提高淀积效率的淀积掩模和具有该淀积掩模的掩模组件。所述淀积掩模的两端具有尖的截面,使得当淀积掩模连续地平行布置时,相邻淀积掩模的至少一部分在所述相邻淀积掩模之间的边界处彼此交叠。
掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法.pdf
本申请实施例公开一种掩模板、掩模板组件及掩模板组件制备方法。该掩模板的一具体实施方式包括:该掩模板形成在掩模框架上,掩模板的与掩模框架的固接的环形区域具有多个镂空部。该实施方式通过在掩模板与掩模框架的固接区域形成多个镂空部,可减小掩模板与掩模框架的接触面积,从而方便对掩模板与掩模框架之间的药液残留进行处理,使得药液残留的情况大幅度降低,保证了蒸镀器件的寿命及性能;同时,该设计还降低了掩模板组件的清洗周期时间,提高了掩模板组件的稼动率。
掩模组件、掩模框架以及掩模支撑架.pdf
本发明公开了一种掩模组件、掩模框架以及掩模支撑架,所述掩模组件包括掩模框架和掩模支撑架;所述掩模框架包括至少一个第一连接部;所述掩模支撑架包括至少一个第二连接部;所述掩模框架和所述掩模支撑架通过所述第一连接部和所述第二连接部可拆卸连接。本发明掩模组件包括可拆卸连接的掩模框架和掩模支撑架,在更换掩模组件时,由于掩模框架尺寸没有改变,掩模框架可以直接再次利用,只需更换掩模支撑架即可。本发明能够实现掩模框架多次循环使用,降低掩模框架的替换率,降低生产成本。
掩模组件.pdf
本发明涉及掩模组件。本发明公开了提高有机材料淀积效率的掩模组件,其包括:多个淀积掩模,该多个淀积掩模中每一个的相对端中的至少一端被形成为具有多个突起,所述多个突起形成了位于相邻两个淀积掩模的边界处的至少一个边界孔径区。