一种清洁系统及其清洁头风干方法.pdf
曦晨****22
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相关资料
一种清洁系统及其清洁头风干方法.pdf
本发明涉及一种清洁系统和清洁系统的清洁头风干方法,清洁系统包括:基站,包括风机;清洁设备,包括清洁头,并且所述清洁设备能够与所述基站对接;其中,当基站与清洁设备对接后,所述清洁头与所述风机流体连通,以备所述风机持续抽吸空气时,使气流流经所述清洁头,对所述清洁头进行风干。本发明的基站的风机能够在清洁头处形成高速流通的气流,无需增加硬件结构部件,便能够对清洁头进行风干,避免清洁头由于长时间浸水产生发霉、发臭的现象,降低成本,使机器小型化。
一种高空外墙清洁机器人的清洁系统及其清洁方法.pdf
本发明涉及建筑物外墙清洁技术领域,尤其涉及一种高空外墙清洁机器人的清洁系统及其清洁方法,包括清洁机器、安装在清洁机器上的清水系统和清洁剂系统,清洁剂系统包括清洁剂水箱和清洁剂水泵,清洁剂水箱和清洁剂水泵之间设有第一过滤器,清洁剂水泵分别与第一减压阀、上行喷清洁剂雾电磁阀和下行喷清洁剂雾电磁阀连接,上行喷清洁剂雾电磁阀连接有第一上行雾化喷头;下行喷清洁剂雾电磁阀连接有第一下行雾化喷头;本发明采用喷雾式喷头可节约资源同时减少污水的产生,配合使用盘刷,可由其内旋式设计进一步免除污水的残留;上、下双向清洗可以最大
刻蚀设备腔体清洁方法及其清洁系统.pdf
本发明公开了一种用于金属硬质掩模刻蚀工艺的泛林腔体,清除半导体生产工艺中的刻蚀设备腔体内残留杂质的刻蚀设备腔体清洁方法,包括:采用沉积气体在刻蚀设备腔体内进行淀积,使刻蚀设备腔体内表面形成清洁薄膜,并使该清洁薄膜包裹黏附刻蚀设备腔体内表面上的待清洁杂质;采用清洁气体清除所述清洁薄膜。本发明还公开了一种用于清除半导体生产工艺中的刻蚀设备腔体内残留杂质的刻蚀设备腔体清洁系统。本发明的清洁方法和清洁系统能清除刻蚀设备腔体内残留杂质(聚合物或污染颗粒),能提高刻蚀设备腔体高清洁效率。
一种高频声波清洁系统及其方法.pdf
本发明公开了一种高频声波清洁系统及其方法,包括基座,所述基座的一面用于与机械手固定连接;声波发生器,所述声波发生器安装在基座的另一面,声波发生器利用空气共振产生的声波传导到车辆,使得车身产生振动剥离颗粒污渍。本发明解决了自动洗车机的用水量大的问题,可使车体发生振动实现表面颗粒污渍大范围剥离的效果。
一种自清洁方法和清洁系统.pdf
本申请涉及一种清洁设备的自清洁方法和清洁设备,所述方法包括:在确定清洁设备与基站对接且确定开启自清洁模式时,控制充电功能失效;控制执行第一数量次第一子自清洁模式;执行第一子自清洁模式包括:控制清洁液喷射模块喷射清洁液;控制清洁液喷射模块停止喷射清洁液,并控制充电功能有效;控制充电功能失效;控制吸力驱动模块运行;控制吸力驱动模块停止工作。如此,在自清洁过程中能够进行充电,在低电量的时候可先自清洁一段时间,避免因电量不足,长时间充电导致污垢在清洁件以及污水箱中停留时间较长,后续难以清理干净或需要更长时间来清洁