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刻蚀设备腔体清洁方法及其清洁系统.pdf
2023-11-15
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纪阳****公主
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刻蚀设备腔体清洁方法及其清洁系统.pdf
本发明公开了一种用于金属硬质掩模刻蚀工艺的泛林腔体，清除半导体生产工艺中的刻蚀设备腔体内残留杂质的刻蚀设备腔体清洁方法，包括:采用沉积气体在刻蚀设备腔体内进行淀积，使刻蚀设备腔体内表面形成清洁薄膜，并使该清洁薄膜包裹黏附刻蚀设备腔体内表面上的待清洁杂质；采用清洁气体清除所述清洁薄膜。本发明还公开了一种用于清除半导体生产工艺中的刻蚀设备腔体内残留杂质的刻蚀设备腔体清洁系统。本发明的清洁方法和清洁系统能清除刻蚀设备腔体内残留杂质(聚合物或污染颗粒)，能提高刻蚀设备腔体高清洁效率。
2023-11-15
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本发明公开了一种刻蚀反应腔体的清洁方法，包括反应腔体和进气单元；清洁方法包括：通入第一工艺气体冲洗进气单元，使进气单元内壁至少部分的反应副产物剥落；接着通入第二工艺气体，使所述第二工艺气体的等离子体与剥落的第一副产物及所述反应腔体内壁的第一副产物发生反应，以清洗反应腔体的内壁；然后通入第三工艺气体并增加所述第三工艺气体的压力，使所述第三工艺气体的等离子体与进气单元内已剥落和未剥落的第二副产物反应，以清洗进气单元的内壁；最后增加第二工艺气体的压力，与进气单元内未剥落的第一副产物发生反应，以清洗所述进气单元的
2023-11-22
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本发明公开了一种薄膜沉积设备腔体清洁装置及清洁方法，属于产品腔体清洁技术领域，解决了现有的产品腔体清洁存在需手动清洁和清洁效果差的问题，其技术要点是：工作台的一侧开设有配合槽，配合槽上设置有吹风机构和抽风机构，配合槽的外侧设置有夹持机构，第一支撑柱与第二支撑柱的连接处设置有升降驱动机构，第二支撑柱的底部设置有万向轮，吹风机构便于将待清洁产品内的颗粒杂质吹起，抽风组便于将吹起的颗粒杂质抽取至收集组内收集，夹持机构便于对待清洁产品进行夹持固定，升降驱动机构便于驱动工作台根据待清洁产品的高度下降调节至合适的位置
2023-08-20
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本申请实施例提供的清洁系统、自移动清洁设备及清洁系统的控制方法，其中清洁系统包括清洁基站、自移动清洁设备及位于自移动清洁设备上的清洁模块；清洁基站上设有驱动组件；自移动清洁设备包括：主机，主机内设有控制组件；清洁模块驱动模组，设于主机并与控制组件耦接，且与清洁模块可拆卸地连接；定位组件，设于清洁模块驱动模组并与控制组件耦接，用于检测清洁模块驱动模组的转动信息；控制组件根据定位组件的检测结果，控制清洁模块驱动模组带动清洁模块转动至对接位置，在对接位置，清洁模块可与清洁模块驱动模组分离，并与驱动组件进行连接，
2023-11-06
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本发明涉及一种清洁系统和清洁系统的清洁头风干方法，清洁系统包括：基站，包括风机；清洁设备，包括清洁头，并且所述清洁设备能够与所述基站对接；其中，当基站与清洁设备对接后，所述清洁头与所述风机流体连通，以备所述风机持续抽吸空气时，使气流流经所述清洁头，对所述清洁头进行风干。本发明的基站的风机能够在清洁头处形成高速流通的气流，无需增加硬件结构部件，便能够对清洁头进行风干，避免清洁头由于长时间浸水产生发霉、发臭的现象，降低成本，使机器小型化。
2023-06-01
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