晶圆传送装置、半导体设备及半导体工艺方法.pdf
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晶圆传送装置、半导体设备及半导体工艺方法.pdf
本发明提供一种晶圆传送装置、半导体设备及半导体工艺方法。晶圆传送装置包括推料器、支撑架及检测模块,推料器用于放置待进入制程腔室的晶圆;支撑架位于推料器的上方;检测模块位于推料器的上方,且与支撑架相连接,用于对推料器上放置的晶圆进行检测。采用本发明的晶圆传送装置和半导体设备能够在晶圆的传送过程中对晶圆进行检测,从而能够及时发现晶圆存在的错位及/或晶圆碎片等问题,避免有问题的晶圆传入下一个工序造成更大的损失;采用本发明的半导体工艺方法,能够及时发现晶圆在传送过程中的问题,避免有问题的晶圆传入后续工艺中造成更大
传送臂、半导体设备及传送晶圆的方法.pdf
本发明实施例公开一种传送臂、半导体设备及传送晶圆的方法,传送臂包括:本体、加热模块以及活动部,本体用以承托晶圆;加热模块设于本体,用以预热晶圆;活动部可活动地连接于本体,并能够驱动晶圆相对于加热模块移动,以使加热模块对晶圆的不同区域预热。
晶圆承载装置及半导体工艺设备.pdf
本发明公开一种晶圆承载装置及半导体工艺设备,晶圆承载装置包括托盘支撑部、多个夹持组件、支撑架和用于放置晶圆的托盘;托盘支撑部与支撑架相连接,多个夹持组件沿托盘的周向间隔设置,多个夹持组件围成托盘夹持空间,托盘夹持空间用于放置托盘;夹持组件包括弹性件和导向部,导向部远离托盘的一端与托盘支撑部转动连接,弹性件设置在导向部靠近托盘的一端与托盘支撑部之间;在托盘放入托盘夹持空间的情况下,导向部在托盘的压力作用下发生转动,弹性件被压缩,在将托盘导入托盘夹持空间底部的同时对托盘进行对中。上述方案能够解决托盘在转运的过
半导体晶圆电沉积方法及半导体晶圆电沉积装置.pdf
本发明公开了一种半导体晶圆电沉积方法及半导体晶圆电沉积装置,属于半导体晶圆电沉积领域,为解决现有技术电沉积层均匀性差等问题而设计。本发明半导体晶圆电沉积方法是阳极仅针对待电沉积半导体晶圆的中部进行电沉积,以避免电场线在所述待电沉积半导体晶圆的边缘处集中并产生边缘效应。本发明半导体晶圆电沉积装置包括夹具、挡板、以及阳极,待电沉积半导体晶圆与挡板之间留有间隔;在挡板上开设有挡板通孔,挡板通孔的位置对应于待电沉积半导体晶圆且挡板通孔的面积小于待电沉积半导体晶圆的面积。本发明半导体晶圆电沉积方法及半导体晶圆电沉积
半导体工艺-晶圆清洗.doc
晶圆清洗摘要:介绍了半导体IC制程中存在的各种污染物类型及其对IC制程的影响和各种污染物的去除方法,并对湿法和干法清洗的特点及去除效果进行了分析比较。;c1{2u5g)Gx/f)`9d关键词:湿法清洗;RCA清洗;稀释化学法;IMEC清洗法;单晶片清洗;干法清洗.Q#t,~6g6f&j8P/?中图分类号:TN305.97文献标识码:B文章编号:1003-353X(2003)09-0044-0481前言半导体IC制程主要以20世纪50年代以后发明的四项基础工艺(离子注入、扩散、外延生长及光刻)为基础逐渐发展