

晶圆承载装置及半导体工艺设备.pdf
书生****12
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晶圆承载装置及半导体工艺设备.pdf
本发明公开一种晶圆承载装置及半导体工艺设备,晶圆承载装置包括托盘支撑部、多个夹持组件、支撑架和用于放置晶圆的托盘;托盘支撑部与支撑架相连接,多个夹持组件沿托盘的周向间隔设置,多个夹持组件围成托盘夹持空间,托盘夹持空间用于放置托盘;夹持组件包括弹性件和导向部,导向部远离托盘的一端与托盘支撑部转动连接,弹性件设置在导向部靠近托盘的一端与托盘支撑部之间;在托盘放入托盘夹持空间的情况下,导向部在托盘的压力作用下发生转动,弹性件被压缩,在将托盘导入托盘夹持空间底部的同时对托盘进行对中。上述方案能够解决托盘在转运的过
晶圆承载装置.pdf
本发明揭示了一种晶圆承载装置,包括:晶圆承载台、支撑晶圆承载台的承载台支柱、设置在承载台支柱内的缓冲装置和预清洗装置,预清洗装置包括:能竖直升降的防护罩、能竖直升降的喷头及收集槽。本发明晶圆承载装置通过设置预清洗装置,在晶圆卸载至晶圆承载台之前,对晶圆进行预清洗,以去除晶圆表面残留的化学液,避免残留的化学液对已加工完成的晶圆产生腐蚀,及后续机械手取晶圆时,化学液污染机械手,从而提高晶圆加工质量及延长机械手的使用寿命。
晶圆承载装置.pdf
本发明揭露一种晶圆承载装置用以承载多个晶圆以进行一半导体制程。此晶圆承载装置包括一有源传动模块、多个从动转盘模块、及一环状齿轮元件。任一从动转盘模块包含一转盘元件及一齿轮环,且齿轮环或有源传动模块具有一第一环形凹槽用以容置多个滚珠。环状齿轮元件用以与部分齿轮环啮合,借由驱动有源传动模块使位于转盘元件上的晶圆相对于有源传动模块的中心轴公转并且相对于转盘元件的中心轴自转。借由本装置可使晶圆镀膜厚度更佳均匀以提高半导体制程的良率。
晶圆承载装置.pdf
本发明公开了一种晶圆承载装置,其包括第一支撑部、第二支撑部和第三支撑部,第三支撑部位于第一支撑部和第二支撑部之间,所述第三支撑部具有多个平行的限位块,相邻限位块之间形成供晶圆插入的插槽,所述插槽在平行于限位块排列方向的平面内的投影由上部的喇叭形开口和下部的长条形盲孔组成,所述喇叭形开口的下端与长条形盲孔的上端连接,所述喇叭形开口为弧形结构且由上至下呈减缩状。本发明将第三支撑部中的插槽由带夹角的Y型改进为带弧度的Y型,既能减小晶圆与第三支撑部的插槽之间的阻力,有助于晶圆自由下落,又可以更好地固定晶圆并保持晶
半导体工艺设备及其承载装置.pdf
本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其承载装置。该承载装置包括基座及设置于基座内的导气结构;基座的顶面上开设有第一凹槽,第一凹槽的底面用于承载晶圆,第一凹槽中承载有晶圆时,第一凹槽的内壁与晶圆的边缘之间具有间隙;第一凹槽的底面上开设有第二凹槽;导气结构包括导气通道和连通通道,导气通道的数量为多个,多个导气通道沿基座周向均匀排布,每个导气通道均连通间隙和第二凹槽,连通通道连通第二凹槽和基座下方的空间。本申请实施例通过对晶圆边缘区域的反应气体浓度进行减低,从而降低了晶圆边缘区域的膜生长速率,进而提高了晶圆膜