喷砂装置及形成图案的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局*CN102380829A*(12)发明专利申请(10)申请公布号CN102380829A(43)申请公布日2012.03.21(21)申请号201010268019.6(22)申请日2010.08.31(71)申请人鸿富锦精密工业（深圳）有限公司地址518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号申请人鸿海精密工业股份有限公司(72)发明人许嘉麟(51)Int.Cl.B24C3/02(2006.01)B24B5/00(2006.01)B24C1/04(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图4页(54)发明名称喷砂装置及形成图案的方法(57)摘要本发明提供一种喷砂装置，其包括一主体具有一内部空间，一与该主体连接且出口对准该主体内部空间的喷嘴，以及一收容于该主体内部空间且与该喷嘴间隔一定距离的过滤通道。该过滤通道具有一内部通孔用于对准待喷砂的工件预定区域。本发明还提供一种形成图案的方法，其包括步骤：提供一基板，其具有一待形成图案的膜层；覆盖一干膜光阻层于该膜层；提供一具有待形成的图案的光罩并利用该光罩对该干膜光阻层曝光；显影去除可显影溶解的光阻而留下不可显影溶解的光阻成为光阻保护层；利用上述喷砂装置喷砂蚀刻去除未受该光阻保护层遮盖的该膜层；以及去除该光阻保护层，于该基板上形成膜层图案。CN102389ACCNN110238082902380844A权利要求书1/1页1.一种喷砂装置，其包括：一主体，其具有一内部空间；一个与该主体连接的喷嘴，该喷嘴的出口对准该主体内部空间；以及一个收容于该主体内部空间且与该喷嘴间隔一定距离的过滤通道，该过滤通道具有一内部通孔用于承接自该喷嘴喷出的砂粒并用于对准待喷砂的工件预定区域。2.如权利要求1所述的喷砂装置，其中：该主体包括多个支柱以及多个挡板，该多个支柱以及该多个挡板围成该内部空间。3.如权利要求1所述的喷砂装置，其中：该过滤通道与该喷嘴同轴设置。4.如权利要求1所述的喷砂装置，其中：该过滤通道包括一靠近该喷嘴的管状端部以及一靠近待喷砂的工件预定区域的板状端部，该内部通孔贯穿该管状端部和该板状端部。5.如权利要求4所述的喷砂装置，其中：该过滤通道进一步包括一连接该管状端部和该板状端部的圆弧形连接部。6.如权利要求4所述的喷砂装置，其中：该过滤通道进一步包括一开设在该板状端部朝向该内部空间的表面的砂粒收容槽。7.如权利要求1所述的喷砂装置，其中：该主体包括多个支柱，该等支柱限定该内部空间，该过滤通道周缘与该支柱配合。8.一种形成图案的方法，其包括：提供一基板，其具有一待形成图案的膜层；覆盖一干膜光阻层于该膜层；提供一具有待形成的图案的光罩并利用该光罩对该干膜光阻层曝光；显影去除可显影溶解的光阻而留下不可显影溶解的光阻成为光阻保护层；提供一喷砂装置，该喷砂装置包括一具有一内部空间的主体，一个与该主体连接且出口对准该内部空间的喷嘴，以及一个收容于该主体内部空间且与该喷嘴间隔一定距离的过滤通道，该过滤通道具有一内部通孔用于承接自该喷嘴喷出的砂粒并用于对准待喷砂的工件预定区域；利用该喷砂装置喷砂蚀刻去除未受该光阻保护层遮盖的该膜层；以及去除该光阻保护层，于该基板上形成膜层图案。9.如权利要求8所述的形成图案的方法，其中：该干膜光阻层为正光阻，受曝光和显影去除的光阻非对应图案区域。10.如权利要求8所述的形成图案的方法，其中：该过滤通道与该喷嘴同轴设置。2CCNN110238082902380844A说明书1/3页喷砂装置及形成图案的方法技术领域[0001]本发明涉及喷砂装置，以及涉及利用喷砂装置形成图案的方法。背景技术[0002]喷砂装置的喷砂利用物理碰撞切削工件的方法常被用于清整去污，使工件表面具有一定清洁度和粗糙度。现有技术的一种喷砂装置具有一个喷嘴，砂粒经过该喷嘴即撒向工件表面。该砂粒对工件具有非等向性的物理蚀刻效果。[0003]随着现在的工件越来越精密，其待加工的区域越来越小。然而，由于砂粒经过喷嘴喷出，其会撒向一个更宽的区域，即喷射区可能比喷嘴尺寸大2～3倍。因此，难以应用喷砂于精密加工领域。发明内容[0004]有鉴于此，有必要提供一种可应用于精密加工领域的喷砂装置和利用该喷砂装置形成图案的方法。[0005]一种喷砂装置，其包括一具有一内部空间的主体，一个与该主体连接且出口对准该内部空间的喷嘴，以及一个收容于该主体内部空间且与该喷嘴间隔一定距离的过滤通道。该过滤通道具有一内部通孔用于承接自该喷嘴喷出的砂粒并用于对准待喷砂的工件预定区域。[0006]一种形成图案的方法，其包括如下步骤：提供一基板，其具有一待形成图案的膜层；覆盖一干膜光阻层于该膜层；提供一具有待形成的图案的光罩并利用该光罩对该干膜光阻层曝光；显影去除可显影溶解的光阻而留下不