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曝光方法、曝光系统和电子器件的制造方法.pdf

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目的是提供能够控制抗蚀剂图案的侧壁角度的曝光方法。曝光方法包含以下步骤:读入表示第1参数与第2参数的关系的数据,根据数据和第2参数的目标值决定第1参数的目标值(S201～S203),其中第1参数是和具有第1波长的第1脉冲激光与具有比第1波长大的第2波长的第2脉冲激光的能量比率有关的参数,第2参数是与利用第1脉冲激光和第2脉冲激光来曝光抗蚀剂膜的情况下得到的抗蚀剂膜的侧壁角度有关的参数;以及根据第1参数的目标值对窄带化气体激光装置进行控制,以使其输出第1脉冲激光和第2脉冲激光,并曝光抗蚀剂膜(S205)。