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曝光系统和电子器件的制造方法.pdf
2023-05-10
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黛娥****ak
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目的是提供能够控制抗蚀剂图案的侧壁角度的曝光方法。曝光方法包含以下步骤:读入表示第1参数与第2参数的关系的数据,根据数据和第2参数的目标值决定第1参数的目标值(S201～S203),其中第1参数是和具有第1波长的第1脉冲激光与具有比第1波长大的第2波长的第2脉冲激光的能量比率有关的参数,第2参数是与利用第1脉冲激光和第2脉冲激光来曝光抗蚀剂膜的情况下得到的抗蚀剂膜的侧壁角度有关的参数;以及根据第1参数的目标值对窄带化气体激光装置进行控制,以使其输出第1脉冲激光和第2脉冲激光,并曝光抗蚀剂膜(S205)。
2023-05-23
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2023-05-10
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本公开的一个观点的曝光系统具有:激光装置,其输出脉冲激光;照明光学系统,其将脉冲激光引导至掩模版;掩模版台,其使掩模版移动;以及处理器,其对来自激光装置的脉冲激光的输出和基于掩模版台的掩模版的移动进行控制,曝光系统对掩模版照射脉冲激光而对半导体基板进行扫描曝光。掩模版具有第1区域和第2区域,处理器根据与第1区域和第2区域各个区域对应的邻近效应特性,向激光装置指示与各个区域对应的脉冲激光的控制参数的值,以使其输出呈在各个区域中与基准的邻近效应特性之差收敛于容许范围的邻近效应特性的脉冲激光。
2023-05-10
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2023-05-18
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