曝光装置和物品制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111948909A(43)申请公布日2020.11.17(21)申请号202010410604.9(22)申请日2020.05.15(30)优先权数据2019-0939192019.05.17JP(71)申请人佳能株式会社地址日本东京(72)发明人繁延笃吉冈勇德岛崎将俊(74)专利代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司11038代理人汪晶晶(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图6页(54)发明名称曝光装置和物品制造方法(57)摘要本发明公开了曝光装置和物品制造方法。提供了一种曝光装置，该曝光装置执行在交换基板的同时曝光多个基板中的各个基板的作业处理。该装置包括被配置为保持基板的基板保持器以及被配置为控制作业处理的控制器。控制器基于作业处理的经过时间与基板变形量之间的关系来校正由于基板的变形而生成的重叠误差，并曝光基板。在该关系中，在基板交换时输送到基板保持器的基板被赋予初始变形量，该初始变形量与基板保持器在基板交换时的残留热量对应。CN111948909ACN111948909A权利要求书1/2页1.一种曝光装置，其特征在于，执行在交换基板的同时曝光多个基板中的各个基板的作业处理，该曝光装置包括：基板保持器，被配置为保持基板；以及控制器，被配置为控制作业处理，其中控制器基于作业处理的经过时间与基板变形量之间的关系来校正由于基板的变形而生成的重叠误差，并且曝光基板，以及其中，在所述关系中，在基板交换时输送到基板保持器的基板被赋予初始变形量，该初始变形量与基板保持器在基板交换时的残留热量对应。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述关系由在基板曝光时要应用的加热模型和在基板交换时要应用的冷却模型来表示，加热模型被表述为其中是基板变形量，th是曝光时间，Io是饱和变形量，是加热时的初始变形量，并且Kh是加热时的时间常数，以及冷却模型被表述为其中是基板变形量，tc是曝光停止时间，是冷却时的初始变形量，并且Kc是冷却时的时间常数。3.根据权利要求2所述的装置，其中，基于通过紧前一个应用的冷却模型获得的基板变形量的最终预测值，确定加热时的初始变形量，并且，基于通过紧前一个应用的加热模型获得的基板变形量的最终预测值，确定冷却时的初始变形量。4.根据权利要求2所述的装置，其中加热模型和冷却模型中的每一个由通过线性叠加具有不同系数的多个模型公式而获得的模型公式来表述。5.一种曝光装置，其特征在于，执行在交换基板的同时曝光多个基板中的各个基板的作业处理，该曝光装置包括：基板保持器，被配置为保持基板；以及控制器，被配置为控制作业处理，其中控制器基于作业处理的经过时间与基板温度之间的第一关系以及基板温度与基板变形量之间的第二关系来校正由于基板的变形而生成的重叠误差，并曝光基板，以及在第一关系中，在基板交换时输送到基板保持器的基板被赋予初始温度，该初始温度与基板保持器在基板交换时的残留热量对应。6.根据权利要求5所述的装置，其中第一关系由基板曝光时要应用的加热模型和基板交换时要应用的冷却模型来表示，加热模型被表述为其中是基板温度，th是曝光时间，To是饱和温度，是加热时的初始温度，并且2CN111948909A权利要求书2/2页Kh是加热时的时间常数，以及冷却模型被表述为其中是基板温度，tc是曝光停止时间，是冷却时的初始温度，并且Kc是冷却时的时间常数。7.根据权利要求6所述的装置，其中，基于通过紧前一个应用的冷却模型获得的基板温度的最终预测值，确定加热时的初始温度，并且，基于通过紧前一个应用的加热模型获得的基板温度的最终预测值，确定冷却时的初始温度。8.根据权利要求7所述装置，还包括：测量设备，被配置为测量基板的温度，其中控制器基于在开始基板交换的定时处由测量设备测得的温度来校准加热时的初始温度。9.根据权利要求6所述的装置，其中加热模型和冷却模型中的每一个由通过线性叠加具有不同系数的多个模型公式而获得的模型公式来表述。10.根据权利要求1所述的装置，其中基板变形量的组成包括基板移位、基板倍率、压射倍率、基板驱动方向上的移位差、梯形失真变形和弯曲变形中的至少一个。11.根据权利要求1所述的装置，还包括：原件台，被配置为保持原件；基板保持器，被配置为保持基板；基板台，被配置为支撑基板保持器；照明光学系统，被配置为照亮由原件台保持的原件；以及投影光学系统，被配置为将由照明光学系统照亮的原件的图案投影到由基板保持器保持的基板上，其中控制器通过执行以下至少一项来校正重叠误差：投影光学系统的光学元件的驱动、基板台的驱动、原件台的驱动、照明光学系统的光学元件的驱动以及照明光学系统的光源的振荡频率的调整。12.一种物品制造方法，其特征在于，