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曝光系统、激光控制参数的生成方法和电子器件的制造方法.pdf
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鸿朗****ka
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本公开的一个观点的曝光系统具有:激光装置,其输出脉冲激光;照明光学系统,其将脉冲激光引导至掩模版;掩模版台,其使掩模版移动;以及处理器,其对来自激光装置的脉冲激光的输出和基于掩模版台的掩模版的移动进行控制,曝光系统对掩模版照射脉冲激光而对半导体基板进行扫描曝光。掩模版具有第1区域和第2区域,处理器根据与第1区域和第2区域各个区域对应的邻近效应特性,向激光装置指示与各个区域对应的脉冲激光的控制参数的值,以使其输出呈在各个区域中与基准的邻近效应特性之差收敛于容许范围的邻近效应特性的脉冲激光。
2023-05-10
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目的是提供能够控制抗蚀剂图案的侧壁角度的曝光方法。曝光方法包含以下步骤:读入表示第1参数与第2参数的关系的数据,根据数据和第2参数的目标值决定第1参数的目标值(S201～S203),其中第1参数是和具有第1波长的第1脉冲激光与具有比第1波长大的第2波长的第2脉冲激光的能量比率有关的参数,第2参数是与利用第1脉冲激光和第2脉冲激光来曝光抗蚀剂膜的情况下得到的抗蚀剂膜的侧壁角度有关的参数;以及根据第1参数的目标值对窄带化气体激光装置进行控制,以使其输出第1脉冲激光和第2脉冲激光,并曝光抗蚀剂膜(S205)。
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本公开的一个观点的曝光系统具有:激光装置,其输出脉冲激光;照明光学系统,其将脉冲激光引导至掩模版;掩模版台;以及处理器,其对来自激光装置的脉冲激光的输出和基于掩模版台的掩模版的移动进行控制。掩模版具有被配置有第1图案的第1区域和被配置有第2图案的第2区域,第1区域和第2区域分别是在相对于脉冲激光的扫描方向正交的扫描宽度方向上连续的区域,第1区域和第2区域在扫描方向上并排地配置。处理器根据第1区域和第2区域的各个区域改变脉冲激光的控制参数的值,对激光装置进行控制,以使其输出与第1区域和第2区域的各个区域对应
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本发明提供激光腔和电子器件的制造方法。准分子激光装置的激光腔具有:容器,其包含第1部件和第2部件,在内部收纳激光气体;以及环状的密封部件,其被配置于所述第1部件与所述第2部件的对置的2个密封面之间,所述密封部件的激光气体侧的表面由氟橡胶构成,所述密封部件的大气侧的表面由抑制大气透过的膜构成,所述膜的厚度形成为,在远离所述2个密封面的位置处较厚,在接近所述2个密封面的位置处较薄。
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本公开的一个观点的激光装置具有：振荡器，其输出脉冲激光；旋转台，其支承被配置于脉冲激光的光路上的光学元件；光栅，脉冲激光经由光学元件入射到光栅；第1驱动机构，其驱动旋转台而变更入射到光栅的入射角度；第2驱动机构，其以比第1驱动机构小的驱动量驱动旋转台而变更入射到光栅的入射角度；波长监视器，其计测脉冲激光的中心波长；以及处理器，其周期性地变更脉冲激光的目标波长，根据目标波长和波长监视器的计测值向第2驱动机构输出驱动指令，将中心波长控制成目标波长，处理器在成为波长指令周期的整数倍的区间内计算第2驱动机构的驱动
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