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光致抗蚀剂组合物及使用其制造半导体器件的方法.pdf

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本发明公开了一种光致抗蚀剂组合物,其含有:包含第一化合物和第二化合物的聚合物;光致产酸剂;和溶剂,所述第一化合物具有由下式1表示的单元结构,所述第二化合物具有由下式2表示的单元结构;[式1]其中:R1是氢或烷基;R2各自独立地包括氢、羟基、烷基、杂烷基、环烷基、杂环烷基、芳基和杂芳基中的至少一种;并且x、y和z是构成第一化合物的重复单元的摩尔分数并满足以下条件:x+y+z=1、0<x/(x+y+z)<1、0<y/(x+y+z)<1和0<z/(x+y+z)<1;[式2]其中R3包括氢、羟基、烷基、杂烷基、环烷基、杂环烷基、芳基和杂芳基中的至少一种。