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本实用新型涉及镀膜设备技术领域,公开了一种公自转式传动机构及镀膜设备,包括公转底托和自转底托,自转底托能随公转底托的自转发生公转,公转底托自转时通过传动组件带动自转底托发生自转;自转底托上设有用于放置镀件的放置槽,放置槽为通槽,当镀件置于放置槽内时,镀件的底部与公转底托接触;当自转底托发生自转时,镀件与公转底托之间形成的摩擦力驱使镀件发生自转。通过镀件与公转底托之间的相对摩擦形成摩擦力以驱使镀件发生自转,有效地降低了由于镀件之间发生的相互遮挡导致镀膜不充分的情形,进而提高了镀膜质量。