镀膜设备以及镀膜机构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN113881927A(43)申请公布日2022.01.04(21)申请号202111105649.6H01L31/0216(2014.01)(22)申请日2021.09.22H01L31/18(2006.01)(71)申请人江苏微导纳米科技股份有限公司地址214000江苏省无锡市新吴区漓江路11号(72)发明人吴兴华张鹤严大黄伟王亨郑中伟黎微明(74)专利代理机构深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280代理人黎坚怡(51)Int.Cl.C23C14/56(2006.01)C23C14/08(2006.01)C23C14/06(2006.01)H01L21/677(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图3页(54)发明名称镀膜设备以及镀膜机构(57)摘要本申请公开了一种镀膜设备以及镀膜机构，该镀膜设备包括：镀膜机构，包括第一炉管、第二炉管以及第三炉管，第一炉管、第二炉管分别用于在基板的第一表面依次形成第一膜层、第二膜层，第三炉管用于在第二炉管形成第二膜层后，在基板的第二表面形成第三膜层，其中，第二膜层与第三膜层的形成时间相等且均是第一膜层的形成时间的第一整数倍，第二炉管与第三炉管的数量相等且均是第一炉管的数量的第二整数倍，第一整数与第二整数相等；翻面机构，用于在第二炉管形成第二膜层后，将基板进行翻面；传送机构，用于将基板在镀膜机构和翻面机构之间传送。本申请的镀膜设备能够实现双面镀膜，提高镀膜的生产效率。CN113881927ACN113881927A权利要求书1/1页1.一种镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备包括：镀膜机构，包括第一炉管、第二炉管以及第三炉管，所述第一炉管、所述第二炉管分别用于在基板的第一表面依次形成第一膜层、第二膜层，所述第三炉管用于在所述第二炉管形成所述第二膜层后，在所述基板的第二表面形成第三膜层，其中，所述第二膜层与所述第三膜层的形成时间相等且均是所述第一膜层的形成时间的第一整数倍，所述第二炉管与所述第三炉管的数量相等且均是所述第一炉管的数量的第二整数倍，所述第一整数与所述第二整数相等；翻面机构，用于在所述第二炉管形成所述第二膜层后，将所述基板进行翻面；传送机构，用于将所述基板在所述镀膜机构和所述翻面机构之间传送。2.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一炉管的数量为一个，所述第二炉管以及所述第三炉管的数量均为两个。3.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述第一炉管、所述第二炉管以及所述第三炉管依次间隔设置。4.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜机构还包括冷却位，用于在所述基板离开所述镀膜机构之前，降低所述基板的温度。5.根据权利要求4所述的镀膜设备，其特征在于，每个所述第二炉管以及每个所述第三炉管均存在对应的所述冷却位。6.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜机构还包括缓存位，所述缓存位对应所述第一炉管设置，用于放置从所述第一炉管出来的所述基板。7.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜设备还包括：拍舟机构，设置在所述翻面机构与所述镀膜机构之间，用于在所述基板进入所述镀膜机构之前，拍打承载所述基板的石墨舟，使得所述基板落在所述石墨舟的预设位置上。8.根据权利要求1所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜机构的数量为两个以上，每个所述镀膜机构均对应设置有所述翻面机构以及所述传送机构。9.根据权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，所述镀膜机构与对应的所述翻面机构沿第一方向设置，所述两个以上的镀膜机构沿着与所述第一方向垂直的第二方向设置，所述两个以上的镀膜机构对应的所述翻面机构也沿着所述第二方向设置；其中，相邻两个所述镀膜机构接触连接，而相邻两个所述翻面机构之间设有维护通道。10.一种镀膜机构，其特征在于，包括第一炉管、第二炉管以及第三炉管，所述第一炉管、所述第二炉管分别用于在基板的第一表面依次形成第一膜层、第二膜层，所述第三炉管用于在所述第二炉管形成所述第二膜层后，在所述基板的第二表面形成第三膜层，其中，所述第二膜层与所述第三膜层的形成时间相等且均是所述第一膜层的形成时间的第一整数倍，所述第二炉管与所述第三炉管的数量相等且均是所述第一炉管的数量的第二整数倍，所述第一整数与所述第二整数相等。2CN113881927A说明书1/6页镀膜设备以及镀膜机构技术领域[0001]本申请涉及镀膜技术领域，特别是涉及一种镀膜设备以及镀膜机构。背景技术[0002]随着太阳发电的普及，太阳电池片需求量越来越大，因此对太阳电池片的生产要求越来越高。[0003]镀膜工序是太阳电池片生产中一项重要的工序，在现有工艺下，当太阳电池片正、反表面均需要镀膜时，太阳电池片需要途径两个或三个镀