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一种硅片表面处理装置.pdf
2023-04-24
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一吃****天材
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一种硅片表面处理装置.pdf
本实用新型公开了一种硅片表面处理装置,包括底座,所述底座的侧边设有电动升降杆,所述底座上设有转盘,所述转盘的底部与底座内的旋转电机相连接,所述转盘上设有多个夹持机构,本实用新型结构简单,设计新颖,特设的夹持机构不仅可对硅片进行定位,保证硅片在抛光过程中,不会随意移动,大大降低了硅片边缘被擦伤的风险,而且只需要通过调整夹持机构的松紧,即可轻松的将硅片取出,方便快捷。
2023-04-24
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一种硅片双面处理装置.pdf
本发明公开了一种硅片双面处理装置，包括底座、第一伺服电机、丝杠、进给螺母、滑座、下模板、上模座、过渡条、滑动吸取机构、进气通道、进气管、托架、直线模组、立板、调速电机、弹性机构、磨头、支架、转轴、第二伺服电机、第一齿轮、第二齿轮、夹取机构、清洁机构，将硅片直接置于定位槽内，滑动吸取机构将硅片吸紧，第一伺服电机驱动上模座前移，调速电机带动磨头转动，直线模组带动磨头移动，完成硅片“扫描”时磨洗，第二伺服电机带动硅片翻转180°，从而对硅片下表面进行磨洗处理。该装置结构简单，能对硅片的正反两面进行自动磨洗处理，
2023-08-31
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一种硅片背表面喷砂装置及工艺.pdf
本发明公开了一种硅片背表面喷砂装置及工艺。该喷砂装置包括盖板式喷枪上支架、设置在该喷枪上支架下方的壳体以及组装在该壳体中的多个陶瓷载具、内齿圈、外齿圈；内齿圈为柱状，其外周面具有内传动齿；外齿圈为圆环形，其外周面光滑，内周面具有外传动齿；多个陶瓷载具均匀分布在内齿圈与外齿圈之间，各陶瓷载具的外周分别与内齿圈外周面上的内传动齿和外齿圈内周面上的外传动齿啮合，内传动齿和外传动齿带动各陶瓷载具运转。在喷砂时，将硅片放置于陶瓷载具的硅片承载孔中，设定内齿圈的转向为正，转速为30‑65rpm；外齿圈的转向为负，转速
2023-10-24
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一种测量硅片扩散长度的表面处理方法.pdf
本发明提供一种测量硅片扩散长度的表面处理方法，包括如下步骤，将原生硅片在酸液中漂洗，漂洗后用去离子水清洗，去除残留漂洗液后烘干，再利用等离子体气相化学沉积法在硅片表面沉积氮化硅薄膜，将沉积了氮化硅薄膜的硅片放入烧结炉烧结，最后将烧结完的硅片冷却至室温后放入SemiLab?PV2000测试设备的样品台测试，结果SPV8、SPV6信号均明显增强，线性比LR显著增大，完全达到测试设备要求。
2023-06-20
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2023-11-15
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