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一种硅片的处理方法和装置.pdf
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本发明提供一种硅片的处理方法和装置，在硅片的处理方法中，将硅片输送盒置于盛有浸没液且处于溢流状态的卸载槽中，硅片输送盒交互面与水平面呈平行状态，硅片输送盒中用于承载硅片的承载面与水平面垂直，在硅片完成最终抛光之后，将硅片以竖直方式装载至硅片输送盒中并使硅片浸没于浸没液中。根据本发明的硅片的处理方法，在硅片完成最终抛光之后，能够将硅片以竖直方式装载至硅片输送盒中并使硅片浸没于浸没液中，避免硅片完成最终抛光后装载至硅片输送盒时该硅片输送盒中的硅片露出，减轻因残留的浆料引起的蚀刻，通过硅片的处理装置能够实现上述
2023-11-15
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