

具快拆功能的粉末原子层沉积设备.pdf
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相关资料
具快拆功能的粉末原子层沉积设备.pdf
本发明提供一种具快拆功能的粉末原子层沉积设备,主要包括一真空腔体、一轴封装置及一驱动单元,其中驱动单元连接轴封装置。真空腔体连接轴封装置,并于真空腔体与轴封装置之间形成一密闭空间。至少一抽气管线位于轴封装置内,流体连接密闭空间,其中抽气管线用以抽出密闭空间内的气体,以将真空腔体固定在轴封装置上,使得驱动单元可透过轴封装置带动真空腔体转动,以利于在粉末的表面形成厚度均匀的薄膜。抽气管线停止抽气后,可快速将完成原子层沉积的真空腔体由轴封装置上卸下,以提高制程效率及使用时的便利性。
防止内壁沾黏的粉末原子层沉积装置.pdf
本发明提供一种防止内壁沾黏的粉末原子层沉积装置,主要包括一真空腔体、一轴封装置、一驱动单元及一敲击装置。驱动单元通过轴封装置连接真空腔体的后壁,并带动真空腔体转动。轴封装置包括一外管体及一内管体,其中内管体设置在外管体的容置空间内。敲击装置包括一轮体及一敲击单元,其中轮体连接轴封装置或真空腔体。轮体的轮面上设置至少一凸起部,敲击单元则接触轮体的凸起部及轮面。当轮体转动时敲击单元会由凸起部移动至轮面,并敲击轮体的轮面或真空腔体,以避免反应空间内的粉末沾黏在真空腔体的内表面或内壁。
原子层沉积设备.pdf
本发明涉及原子层沉积设备技术领域,涉及一种原子层沉积设备,其包括反应室、基片架、承载装置和供气装置;承载装置包括承载件和旋转组件,承载件可转动地容置于反应腔内,基片架设于承载件上,旋转组件分别连接于反应室和承载件并用于驱动承载件旋转;供气装置包括进气组件和排气组件,进气组件和排气组件分别连通于反应腔,且进气组件用于朝向基片架输送反应气体,排气组件用于排出反应腔内的尾气。在本实施例的原子层沉积设备中,通过设置承载装置和供气装置配合,可以在一次加工过程中驱使基片架与多种不同的反应物接触反应,并且无需再经历冲洗
在粉末表面均匀镀膜的原子层沉积装置及其方法.pdf
本发明公开了一种在粉末表面均匀镀膜的原子层沉积方法,包括以下步骤:⑴、加热反应腔内的粉末,同时搅拌和抽真空,送入清洗气;⑵、停止抽真空和截止通入清洗气,向粉末内部通入反应气,搅拌反应;⑶、停止通入反应气,同时开启抽真空,向粉末内部通入清洗气。还提供专用于上述方法的装置。本发明采用向搅拌的粉末内部通入反应气,以及反应后及时进行清洗,循环进行,可实现在粉末表面均匀镀膜,可操纵性好。能有效解决因粉末存在刚性接触点及粉末团聚而不能在其表面均匀镀膜的问题,同时通过分布在旋转流化叶片上的大量微纳米气孔向整个粉末内部均
用于原子层沉积的设备.pdf
本发明的实施例提供了用于例如等离子体增强ALD(PE-ALD)的原子层沉积(ALD)的设备。在一个实施例中,提供了莲喷头组件,其包括莲喷头板,该莲喷头板具有上表面、下表面、从莲喷头板的中心向外边缘延伸的半径,与上表面和下表面流体相通的第一多个孔和与上表面和下表面流体相通的第二多个孔,第一多个孔位于第一区域内,第一区域从莲喷头板的中心延伸到莲喷头板的半径的约25%,并且每个孔具有小于0.1英寸的直径,第二多个孔位于第二区域内,第二区域从莲喷头板的半径的约25%延伸到大约莲喷头板的外边缘,并且每个孔具有大于0