具有基底板的真空腔室.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号(10)申请公布号CNCN103797420103797420A(43)申请公布日2014.05.14(21)申请号201280044300.9(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所(22)申请日2012.09.1211105代理人张雅莉(30)优先权数据61/533,6812011.09.12US(51)Int.Cl.G03F7/20(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2014.03.12(86)PCT国际申请的申请数据PCT/EP2012/0677922012.09.12(87)PCT国际申请的公布数据WO2013/037802EN2013.03.21(71)申请人迈普尔平版印刷IP有限公司地址荷兰代夫特(72)发明人J.J.M.佩杰斯特权权利要求书2页利要求书2页说明书4页说明书4页附图5页附图5页按照条约第19条修改的权利要求书2页按照条约第19条修改的权利要求书2页(54)发明名称具有基底板的真空腔室(57)摘要一种目标加工处理机械（100），譬如光刻机或检测机械，其包括刚性基底板（150）、用于投射一或更多光学或粒子束于目标（130）上的投射柱（101）、支撑该投射柱的支撑框架（102），该支撑框架由基底板支撑并且固定到该基底板、包括用于负载该目标的可移动部分（128）以及由基底板所支撑并且固定到该基底板的固定部分（132、133）的载台、用于检测由该柱所投射的一或更多射束的射束传感器，该射束传感器至少部分地由该基底板支撑并且固定到该基底板、以及密封该支撑框架与该柱的真空腔室（110），用于维持在该腔室的内部空间中的真空环境，该真空腔室借助形成其部分的基底板形成，并且包含多个墙板（171、172），所述墙板（171、172）包括由基底板支撑并且固定至该基底板的多个侧墙板（171）。CN103797420ACN1037942ACN103797420A权利要求书1/2页1.一种目标加工处理机械，如光刻机或检测机械，包括：刚性基底板（150）；投射柱（101），用于投射一或更多光束或粒子束于目标上；支撑框架（102），支撑该投射柱，该支撑框架由基底板支撑并且固定到该基底板；载台，包含用于负载该目标的可移动部分以及由基底板所支撑并且固定到该基底板的固定部分（132、133）；射束传感器（160），用于检测由该柱（101）所投射的一或更多射束，该射束传感器至少部分地由该基底板（150）所支撑并且固定到该基底板；以及真空腔室（110），密封该支撑框架与该柱，用于维持该腔室的内部空间中的真空环境，该真空腔室借助形成其部分的基底板形成，并且包含多个墙板（171、172），所述墙板（171、172）包括由基底板支撑并且固定至该基底板的多个侧墙板（171）。2.如权利要求1所述的机械，其中该射束传感器被至少部分容纳在该载台以下，且其中该基底板包括该射束传感器延伸进入的凹处或孔洞。3.如前述权利要求任一项所述的机械，其中该载台包含用来移动该载台的可移动部分的一或更多驱动器（140），该驱动器至少部分地放置在该真空腔室以外，且其中该基底板包括一或更多开口，该一或更多驱动器经由该等开口与该载台的可移动部分通信。4.如前述权利要求任一项所述的机械，进一步包括位于该侧墙与该基底板之间的一或更多振动隔离构件（182）。5.如前述权利要求任一项所述的机械，其中该基底板包括在其底面上的三个支撑点，以用来支撑底座上的该机械。6.如前述权利要求任一项所述的机械，其中该支撑框架形成部分的振动隔离模块，该模块包括通过至少一个弹簧组件（105）而被连接到该支撑框架的中间体部（103），以及用于容纳该投射柱的支撑体部（104），该支撑体部通过至少一个摆杆（108）而被连接到该中间体部。7.如前述权利要求任一项所述的机械，其中该墙板被组装，以使用多个连接构件来形成该腔室，该连接构件适于可移动地连接该墙板与设置在该墙板边缘上的一或更多密封构件。8.如前述权利要求任一项所述的机械，其中该连接构件适于确定该墙板的位置，同时提供用于小预定范围的墙板移动。9.如前述权利要求任一项所述的机械，其中该连接构件包括销或螺栓。10.如前述权利要求任一项所述的机械，其中一或更多密封构件包括设置在相邻墙板之间的O形环或C形环。11.如前述权利要求任一项所述的机械，其中该腔室的墙板的至少一面基本上以镍铁高导磁率合金覆盖。12.如前述权利要求任一项所述的机械，其中该射束传感器被固定到该基底板，以使该射束传感器与该载台的固定部分具有固定的空间关系。13.如前述权利要求任一项所述的机械，其中该基底板的厚度基本上大于该真空腔室的墙板。14.如前述权利要求任一项所述的机械，其中该基底板具有充分质量，以限制