硅片校正机构.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111710638A(43)申请公布日2020.09.25(21)申请号202010503560.4(22)申请日2020.06.05(71)申请人苏州迈为科技股份有限公司地址215200江苏省苏州市吴江区经济开发区庞金路1801号庞金工业坊D02幢(72)发明人孙松(74)专利代理机构广州华进联合专利商标代理有限公司44224代理人唐清凯(51)Int.Cl.H01L21/68(2006.01)H01L21/67(2006.01)H01L31/18(2006.01)权利要求书1页说明书6页附图7页(54)发明名称硅片校正机构(57)摘要本发明涉及一种硅片校正机构，包括：底座；两个推片件，均可滑动地设在所述底座上，两个所述推片件相对设置；运动件，可滑动地设在所述底座上，所述运动件上开设有两个运动滑轨，两个所述推片件分别滑动与两个所述运动滑轨滑动连接，所述运动件在第一方向上运动时，带动两个所述推片件朝相互靠近或相互远离；两个所述推片件用于在相互靠近时对硅片夹持校正；驱动装置，连接所述运动件，用于带动所述运动件在所述第一方向上运动。现有技术中需要两个气缸连接两个推片件，本实施方式中通过运动件的设置，使得单个气缸可以带动两个推片件相互靠近或相互远离，节省了硅片校正机构的成本。CN111710638ACN111710638A权利要求书1/1页1.一种硅片校正机构，其特征在于，包括：底座；两个推片件，均可滑动地设在所述底座上，两个所述推片件相对设置；运动件，可滑动地设在所述底座上，所述运动件上开设有两个运动滑轨，两个所述推片件分别滑动与两个所述运动滑轨滑动连接，所述运动件在第一方向上运动时，带动两个所述推片件在第二方向上相互靠近或相互远离；两个所述推片件用于在相互靠近时对硅片夹持校正；驱动装置，连接所述运动件，用于带动所述运动件在所述第一方向上运动。2.根据权利要求1所述的硅片校正机构，其特征在于，所述推片件包括：移动部，滑动设在所述底座上，并与所述运动件的一所述运动滑轨滑动连接；推片部，设在所述移动部上背离所述运动件的一侧，并高于所述移动部，所述推片部用于校正硅片。3.根据权利要求2所述的硅片校正机构，其特征在于，所述推片部包括横杆部、设在所述横杆部上的若干校正轮、连接在所述横杆部与所述移动部之间的连接部，两个所述推片部的横杆部平行设置，各所述校正轮沿所述横杆部的长度方向排列。4.根据权利要求3所述的硅片校正机构，其特征在于，所述移动部上设有滑动柱，通过所述滑动柱与所述运动滑轨滑动连接。5.根据权利要求3所述的硅片校正机构，其特征在于，所述移动部上具有多个连接位，所述连接部连接在任意一个所述连接位上。6.根据权利要求1所述的硅片校正机构，其特征在于，所述运动滑轨内形成所述推片件的运动轨迹，所述运动轨迹在沿在所述第一方向和所述第二方向上延伸，所述推片件具有：初始位置和校正位置，所述推片件沿所述运动轨迹运动时在所述初始位置和所述校正位置中切换。7.根据权利要求6所述的硅片校正机构，其特征在于，所述运动轨迹为一斜线，所述推片件从所述运动滑轨的一端运动至另一端时，从所述初始位置切换到校正位置，或从所述校正位置切换到所述初始位置。8.根据权利要求6所述的硅片校正机构，其特征在于，所述运动轨迹为一弧线，所述推片件从所述运动滑轨的一端运动至另一端时，从所述初始位置切换到校正位置，或从所述校正位置切换到所述初始位置。9.根据权利要求6所述的硅片校正机构，其特征在于，所述运动轨迹为一半圆弧，所述推片件从所述运动滑轨的一端运动至另一端时，从所述初始位置切换到校正位置后切换回所述初始位置，或从所述校正位置切换到所述初始位置后切换回所述校正位置。10.根据权利要求1所述的硅片校正机构，其特征在于，所述底座呈T型设置，包括：沿第一方向设置的第一板、沿所述第二方向设置的两个第二板，将所述第一板和两个所述第二板连接的连接板，所述驱动装置设在所述第一板上，两个所述推片件分别设在两个所述第二板上，所述运动件可滑动地设在所述连接板上。2CN111710638A说明书1/6页硅片校正机构技术领域[0001]本发明涉及硅片校正技术领域，特别是涉及硅片校正机构。背景技术[0002]随着经济的发展，社会的进步，光伏产业在国内如火如荼。其中生产硅片的设备需求量也在增加，同时对设备的日产能提出更高的要求。国内的设备厂家越来越朝向节省成本、使用方便、提高产能等特点的方向发展。在硅片的制绒、刻蚀、PECVD和印刷等工艺环节中，对于硅片的校正是每道工序的基本需求。通常的硅片校正机构是由2个气缸组成，在硅片的两侧进行推片，达到校正的目的。现有技术中的硅片校正机构存在以下缺点：气缸伸出然后缩回才可以完成一个校正过程