高光渲染方法、装置、介质及电子设备.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN114693859A(43)申请公布日2022.07.01(21)申请号202210369427.3(22)申请日2022.04.08(71)申请人北京字跳网络技术有限公司地址100190北京市海淀区紫金数码园4号楼2层0207(72)发明人罗汉铭(74)专利代理机构北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙)11447专利代理师曹寒梅(51)Int.Cl.G06T15/50(2011.01)G06T15/20(2011.01)G06T15/00(2011.01)权利要求书2页说明书14页附图5页(54)发明名称高光渲染方法、装置、介质及电子设备(57)摘要本公开涉及一种高光渲染方法、装置、介质及电子设备，所述方法包括：获取待渲染的高光形状的高光图像和头发模型；根据高光图像确定所述高光形状对应的高光强度参数，并根据所述高光图像确定高光形状对应高光偏移参数；根据高光偏移参数和头发模型进行各向异性高光计算，获得各向异性偏移图像；基于高光强度参数对各向异性偏移图像进行强度叠加，获得与高光图像对应的高光渲染图像。由此在进行高光渲染时，可以在各向异性高光的计算过程中，基于该高光偏移参数和头发模型进行位置偏移，并基于高光强度参数进行强度叠加，以保证高光渲染后的形状与高光图像中的高光形状的一致性，保证卡通高光渲染和用户绘制的一致性，提升动画成像的准确性。CN114693859ACN114693859A权利要求书1/2页1.一种高光渲染方法，其特征在于，所述方法包括：获取待渲染的高光形状的高光图像和头发模型；根据所述高光图像确定所述高光形状对应的高光强度参数，并根据所述高光图像确定所述高光形状对应高光偏移参数；根据所述高光偏移参数和所述头发模型进行各向异性高光计算，获得各向异性偏移图像；基于所述高光强度参数对所述各向异性偏移图像进行强度叠加，获得与所述高光图像对应的高光渲染图像。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述高光图像确定所述高光形状对应的高光强度参数，包括：针对所述高光图像的图像矩阵中的每一列，将所述列中各个像素点的特征值进行累加，并根据所述列对应的累加结果确定所述列的高光强度参数；基于所述图像矩阵中的每一列的高光强度参数，确定所述高光形状对应的高光强度参数。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述高光图像确定所述高光形状对应高光偏移参数，包括：针对所述高光图像的图像矩阵中的每一列，确定所述列对应的高光形状的中心行号；根据所述列对应的高光形状的中心行号和所述高光图像对应的中心行号，确定所述列的高光偏移参数；基于所述高光图像中的每一列的高光偏移参数，确定所述高光形状对应的高光偏移参数。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述基于所述高光图像中的每一列的高光偏移参数，确定所述高光形状对应的高光偏移参数，包括：将每一列的高光偏移参数映射目标范围内，获得每一列分别对应的偏移映射值，其中，所述目标范围的取值为正值；将每一列分别对应的偏移映射值形成的参数图像矩阵，确定为所述高光形状对应的高光偏移参数。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述高光偏移参数和所述头发模型进行各向异性高光计算，获得各向异性偏移图像，包括：获取头发模型对应的渲染参数，所述渲染参数包括世界空间法线、世界空间切线、世界空间副法线、世界空间视线方向和世界空间光源方向；基于所述高光偏移参数和所述世界空间法线，对所述世界空间副法线进行偏移，获得更新后的世界空间副法线；基于包含更新后的世界空间副法线的渲染参数进行各向异性高光计算，获得各向异性偏移图像。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述基于所述高光强度参数对所述各向异性偏移图像进行强度叠加，获得与所述高光图像对应的高光渲染图像，包括：基于所述高光强度参数和预设指数进行指数运算，获得强度对比参数；基于所述强度对比参数和所述各向异性偏移图像中的高光值进行强度叠加，获得所述2CN114693859A权利要求书2/2页高光渲染图像。7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述基于所述强度对比参数和所述各向异性偏移图像中的高光值进行强度叠加，获得所述高光渲染图像，包括：对所述各向异性偏移图像中的高光值进行强度叠加所得的高光值进行平滑处理；根据平滑处理后所得的高光值生成所述高光渲染图像。8.一种高光渲染装置，其特征在于，所述装置包括：获取模块，用于获取待渲染的高光形状的高光图像和头发模型；确定模块，用于根据所述高光图像确定所述高光形状对应的高光强度参数，并根据所述高光图像确定所述高光形状对应高光偏移参数；第一处理模块，用于根据所述高光偏移参数和所述头发模型进行各向异性高光计算，获得各向异性偏移图像；第二处理模块，用于基于所