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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112202415A(43)申请公布日2021.01.08(21)申请号202011024256.8(22)申请日2020.09.25(71)申请人杭州星阖科技有限公司地址310016浙江省杭州市上城区钱江国际商务中心1416室(72)发明人李林萍盛荆浩江舟(74)专利代理机构厦门福贝知识产权代理事务所(普通合伙)35235代理人陈远洋(51)Int.Cl.H03H3/02(2006.01)H03H9/02(2006.01)H03H9/17(2006.01)权利要求书2页说明书6页附图6页(54)发明名称一种体声波谐振器的制造工艺和体声波谐振器(57)摘要公开了一种体声波谐振器的制造工艺,包括在衬底上制作声反射镜,在衬底上制作用于覆盖声反射镜的底电极层;对底电极层的外围部分进行化学处理以形成改性层,改性层环绕底电极层;在底电极层上制作压电层;在压电层上制作顶电极层。还公开了一种体声波谐振器,包括衬底、形成在衬底上的声反射镜以及依次形成具有声反射镜的衬底上的底电极层、压电层和顶电极层,其中底电极层的临近声反射镜的边缘的部分被化学处理以形成改性层。凭借改性层的形成削弱或消除了有效工作区域外电极之间的电场强度,电极无法激励其间的压电层产生机械波而抑制了谐振器寄生振荡,同时大大简化了顶电极的布线。CN112202415ACN112202415A权利要求书1/2页1.一种体声波谐振器的制造工艺,包括以下步骤:S1、在衬底上制作声反射镜,S2、在衬底上制作用于覆盖所述声反射镜的底电极层;S3、对所述底电极层的外围部分进行化学处理以形成改性层,所述改性层环绕所述底电极层;S4、在所述底电极层上制作压电层;以及S5、在所述压电层上制作顶电极层。2.根据权利要求1所述的制造工艺,其中,所述底电极的材质包括金属和/或合金材料。3.根据权利要求1所述的制造工艺,其中,所述改性层是对所述底电极层的外围部分进行局部化学处理形成的。4.根据权利要求1所述的制造工艺,其中,所述改性层是对所述底电极层的外围部分进行全部化学处理形成的。5.根据权利要求1所述的制造工艺,其中,在所述步骤S4中使得所述压电层至少覆盖所述改性层,并在所述改性层上方形成无定形态的晶体结构。6.根据权利要求1所述的制造工艺,其中,所述声反射镜包括空腔或布拉格反射层结构。7.根据权利要求1-6中任一项所述的制造工艺,其中,所述化学处理包括硫化处理,且所述步骤S2具体包括以下步骤:S21、在所述底电极层上制作图形化的硬质掩膜,使得待硫化区域的底电极暴露;S22、将带有所述硬质掩膜的晶圆放入反应炉中,通入由氧气、氮气和硫化氢组成的混合气体,并且将所述温度保持在700-800℃范围内以实现硫化反应;以及S23、去除所述硬质掩膜。8.根据权利要求7所述的制造工艺,其中,所述步骤S22还可以为:将带有所述硬质掩膜的晶圆放入反应炉中,通入氧气以实现氧化;利用惰性气体作为载体,并且以硫粉作为前驱体,并且保持温度在600-700℃范围内,以实现硫化反应。9.一种体声波谐振器,包括衬底、形成在衬底上的声反射镜以及依次形成具有所述声反射镜的衬底上的底电极层、压电层和顶电极层,其中所述底电极层的临近所述声反射镜的边缘的部分被实施化学处理以形成改性层。10.根据权利要求9所述的体声波谐振器,其中,所述压电层在所述改性层形成后被制作并且至少覆盖所述改性层,并在所述改性层上方形成无定形态的晶体结构。11.根据权利要求9所述的体声波谐振器,其中,所述底电极层的临近所述声反射镜的边缘的部分被部分化学处理以形成所述改性层。12.根据权利要求9所述的体声波谐振器,其中,所述底电极层的临近所述声反射镜的边缘的部分被完全化学处理以形成所述改性层。13.根据权利要求9所述的体声波谐振器,其中,所述改性层的表面高于未被化学处理的所述底电极层。14.根据权利要求9所述的体声波谐振器,其中,所述声反射镜包括空腔或布拉格反射层结构。15.根据权利要求9-14中任一项所述的体声波谐振器,其中,所述化学处理包括硫化处2CN112202415A权利要求书2/2页理,硫化后的所述改性层环绕所述底电极层的外围,所述底电极层的材质包括金属和/或合金材料。3CN112202415A说明书1/6页一种体声波谐振器的制造工艺和体声波谐振器技术领域[0001]本申请涉及通信器件领域,主要涉及一种体声波谐振器的制造工艺和体声波谐振器。背景技术[0002]随着电磁频谱的日益拥挤、无线通讯设备的频段与功能增多,无线通讯使用的电磁频谱从500MHz到5GHz以上高速增长,因此对性能高、成本低、功耗低、体积小的射频前端模块需求也日益增长。滤波器是射频前端模块之一,可改善发射和接收信号,主要