一种靶材、靶材制备方法及装置.pdf
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一种靶材、靶材制备方法及装置.pdf
本发明是关于一种靶材、靶材制备方法及装置。该靶材包括:背衬管;形成于背衬管的外表面的靶材体;其中,靶材体包括:两个端段和中间段;其中,所述端段的第一靶材厚度大于所述中间段的第二靶材厚度。该技术方案增加了靶材体的端段的厚度,延长靶材在使用过程中的消耗时长,从而防止靶材体两端先耗光,提高靶材的利用率。
一种靶材制备装置及其靶材加工方法.pdf
本发明提供了一种靶材制备装置,包括烧结炉体、复合加热模具、加压装置和加热装置,所述烧结炉体的内腔为真空或气氛保护腔体,复合加热模具置于烧结炉体的内腔内;所述复合加热模具设有内腔,被加工的靶材粉末置于复合加热模具的内腔内;所述加压装置与复合加热模具连接,且加热装置与加压装置连接,可直接对样品加热,复合加热模具可以单独加热。本发明还提供了由上述装置实现的靶材加工方法。本发明可用于制造大尺寸、高熔点、高密度及组成成分的熔点差别较大的合金靶材,同时本发明具有设备简单、烧结时间短、能量效率高、设备及模具损耗小、成本
靶材测量装置以及测量靶材的方法.pdf
本发明实施例提供一种靶材测量装置以及测量靶材的方法。所述靶材测量装置包含固定环、主体及收发器。所述固定环具有第一表面。所述主体位于所述固定环的所述第一表面上方。所述收发器耦合到所述主体。从俯视视角来看,所述收发器至少可在所述固定环的中心与所述固定环的边缘之间移动。本发明实施例还提供一种用于测量靶材的方法。
一种高纯铜靶材的制备方法及靶材的用途.pdf
本发明公开了一种高纯铜靶材的制备方法及靶材的用途,所制备的铜靶材平均晶粒尺寸≤1μm,且分布均匀。制备步骤包括:将纯度≥4N的铜原料依次进行1)连续铸造;2)坯料切割;3)等通道侧向挤压;4)轧制;5)热处理,制得高纯铜靶材。该方法制备的高纯铜靶材具有晶粒尺寸均匀细小、取向较为一致、靶材尺寸较大且较厚等特点,可应用于大规模集成电路互连线的溅射镀膜。
复合金属氧化物靶材材料、靶材及靶材材料、靶材的制备方法.pdf
本发明涉及一种复合金属氧化物靶材材料、靶材及靶材材料、靶材的制备方法。其中,一种复合金属氧化物靶材材料的制备方法,包括如下步骤:取90‑95.8重量份的氧化锌、8‑8.4重量份的氧化镁、2‑2.1重量份的氧化铝、0.15‑0.25重量份的分散剂、0.07‑0.08重量份的粘结剂、以及4‑5重量份的水混合后得到混合浆料;对所述混合浆料进行喷雾造粒。上述复合金属氧化物靶材材料的制备方法工艺简单、成本低廉。由此方法制得靶材材料的颗粒大小匀称,呈球形。此外,靶材材料颗粒中各元素均匀分布于靶材材料颗粒中,进而能够满