靶材测量装置以及测量靶材的方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN112575300A(43)申请公布日2021.03.30(21)申请号202010972850.3C23C14/52(2006.01)(22)申请日2020.09.16(30)优先权数据62/907,5212019.09.27US16/906,9392020.06.19US(71)申请人台湾积体电路制造股份有限公司地址中国台湾新竹市新竹科学工业园力行六路8号(72)发明人普拉德·吉尔达·乔杜里李则辉韦志成杨文成倪其聪(74)专利代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司11287代理人李春秀(51)Int.Cl.C23C14/35(2006.01)权利要求书1页说明书8页附图7页(54)发明名称靶材测量装置以及测量靶材的方法(57)摘要本发明实施例提供一种靶材测量装置以及测量靶材的方法。所述靶材测量装置包含固定环、主体及收发器。所述固定环具有第一表面。所述主体位于所述固定环的所述第一表面上方。所述收发器耦合到所述主体。从俯视视角来看，所述收发器至少可在所述固定环的中心与所述固定环的边缘之间移动。本发明实施例还提供一种用于测量靶材的方法。CN112575300ACN112575300A权利要求书1/1页1.一种靶材测量装置，其包括：固定环，其具有第一表面；主体，其位于所述固定环的所述第一表面上方；及收发器，其耦合到所述主体；其中从俯视视角来看，所述收发器至少可在所述固定环的中心与所述固定环的边缘之间移动。2.根据权利要求1所述的装置，其中所述固定环包括：调零孔，其位于所述第一表面处；及多个安装孔，其位于所述第一表面处且邻近于所述调零孔。3.根据权利要求1所述的装置，其中所述收发器包括光学传感器或压力传感器。4.根据权利要求1所述的装置，其中所述主体包括：一对支撑腿，其耦合到所述固定环；托架轨道，其位于所述一对支撑腿上方且横跨所述固定环；及测量臂，其位于所述托架轨道上方，且所述测量臂经配置以沿托架轨道滑动。5.一种用于测量靶材的方法，其包括：接收用于通过将收发器从初始位置移动到校准位置来寻找所述靶材的中心的指令，所述校准位置在竖直方向上与包围所述靶材的固定环上的调零孔沿线性轨迹对准；接收用于将所述收发器从所述校准位置朝向所述靶材的边缘移动的指令；及接收用于通过将所述收发器从所述边缘移动到所述靶材的中心来扫描所述靶材以获取侵蚀轮廓的指令。6.根据权利要求5所述的方法，其中将所述固定环装设在所述靶材周围。7.根据权利要求6所述的方法，其中所述固定环进一步包括：多个第一安装孔，其从俯视视角来看均匀分布；及多个第二安装孔，其从俯视视角来看靠近所述固定环的一侧分布。8.根据权利要求5所述的方法，其中所述固定环进一步包括第一表面以及与所述第一表面相对的第二表面，所述第一表面的面积大于所述第二表面的面积。9.一种用于测量靶材的方法，其包括：将靶材测量装置安装在腔室中，所述靶材测量装置包括收发器；键入用于沿穿过所述靶材的中心的延长线将所述收发器从初始位置移动到校准位置的指令；及键入用于通过将所述收发器从所述校准位置移动到所述靶材的所述中心来扫描所述靶材以获取侵蚀轮廓的指令。10.根据权利要求9所述的方法，其进一步包括：当所述收发器未能移动到所述校准位置时，手动地移动所述收发器以与所述校准位置对准；其中所述校准位置为所述固定环处的调零孔。2CN112575300A说明书1/8页靶材测量装置以及测量靶材的方法技术领域[0001]本公开涉及一种靶材测量装置以及一种用于靶材测量的方法，特定来说，所公开的装置可测量用于物理气相沉积(PVD)操作的靶材的侵蚀。背景技术[0002]PVD涂层是指各种薄膜沉积技术，其中固体材料在真空环境中蒸发且沉积在衬底上作为纯材料或合金组合物涂层。[0003]大体上，两种最常见的PVD涂层工艺为溅镀及热蒸镀。溅镀涉及用高能电荷轰击被称为靶材的涂层材料，从而使得涂层材料溅射出原子或分子，所述原子或分子沉积在例如硅晶片或太阳电池板的衬底上。不同于溅镀，热蒸镀涉及在高真空环境中使涂层材料升温到沸点，从而使得蒸气流在真空腔室中上升且随后在衬底上冷凝。[0004]当前，PVD广泛用于半导体制造的技术领域中。PVD设备的两个重要部件为磁控管及靶材，因为其影响工具可用性及薄膜性能。因此，磁控管及靶材测量数据的准确性将直接影响对部件更换的判断。发明内容[0005]本发明的一实施例涉及一种靶材测量装置，其包括：固定环，其具有第一表面；主体，其位于所述固定环的所述第一表面上方；及收发器，其耦合到所述主体；其中从俯视视角来看，所述收发器至少可在所述固定环的中心与所述固定环的边缘之间移动。[0006]本发明的一实施例涉及一种用于测量靶材的方法，其包括：接收用于通过将收发器从