一种单晶硅片的清洗烘干装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN110841973A(43)申请公布日2020.02.28(21)申请号201911051124.1F26B21/00(2006.01)(22)申请日2019.10.31(71)申请人无锡乐东微电子有限公司地址214028江苏省无锡市新吴区景贤街52号(72)发明人朱汪龙朱玲(74)专利代理机构南京经纬专利商标代理有限公司32200代理人曹佩佩(51)Int.Cl.B08B3/12(2006.01)B08B3/10(2006.01)B08B3/08(2006.01)B08B13/00(2006.01)F26B15/12(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图1页(54)发明名称一种单晶硅片的清洗烘干装置(57)摘要本发明公开了一种单晶硅片的清洗烘干装置，包括顶部、红外感应装置、化学清洗池、物理清洁池和烘干室，顶部的下方从左至右依次是取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室，顶部包括顶板、传送装置和伸缩装置，通过伸缩装置和红外感应装置，完成硅片在清洗烘干过程。本发明的单晶硅片的清洗烘干装置，装置简单，操作安全稳定，一次性完成单晶硅片的清洗烘干过程，提高了清洗和烘干效率，并且单晶硅片经过两种清洗方式后，达到了更好的清洗效果。CN110841973ACN110841973A权利要求书1/1页1.一种单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：包括顶部、红外感应装置、化学清洗池、物理清洁池和烘干室，顶部的下方从左至右依次是取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室，取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室位于同一水平线上；所述顶部包括顶板、传送装置和伸缩装置，在顶板的下方设有传送装置，传送装置包括两个电机、两个卷轮、传送带，电机分别固定在顶板的两头，每个电机下方连接有卷轮，传送带套链在两个卷轮上；所述伸缩装置安装在传送带上，伸缩装置包括一根固定轴、两个滑轮、电机、卷绳和夹子，两个滑轮分别套装在固定轴的两侧，固定轴的中心安装有电机，两个滑轮与电机连通，固定轴嵌装在传送带上，卷绳顺时针缠绕在滑轮上，卷绳上端固定滑轮上，卷神下端设有夹子，所述红外感应装置包括信号发射器和信号接收器，信号发射器的两端水平安装在夹子的上方卷绳上，信号接收器安装在取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室的内侧底部；所述化学清洗池内侧有超声波发生器，化学清洗池的外侧设有进液阀和排液阀；所述物理清洁池的外侧设有进水阀和排水阀；所述烘干室的内侧右边设有热风机，热风机的出风口贯穿烘干室的内部。2.根据权利要求1所述的单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：所述伸缩装置的固定夹上设有振动器。3.根据权利要求1所述的单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：所述化学清洗池的超声波发生器内设有多个超声波振子。4.根据权利要求1所述的单晶硅片的清洗烘干装置，其特征在于：所述烘干室的热风机的左侧设有导风板，导风板上均匀设有透气孔。2CN110841973A说明书1/3页一种单晶硅片的清洗烘干装置技术领域[0001]本发明涉及一种单晶硅片领域，具体是一种单晶硅片的清洗烘干装置。背景技术[0002]单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等，单晶硅片在加工过程中需要经常进行清洗。[0003]现有的清洗设备有为独立的个体，需要在多个设备上进行不同方式的清洗，清洗效率低下，导致生产成本较高；传送设备用气缸的，在传送的过程中，稳定性和安全性都不够。发明内容[0004]本发明的目的在于提供一种单晶硅片的清洗烘干装置，以解决上述背景技术中提出的问题。[0005]为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种单晶硅片的清洗烘干装置包括顶部、红外感应装置、化学清洗池、物理清洁池和烘干室，顶部的下方从左至右依次是取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室，取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室位于同一水平线上；顶部包括顶板、传送装置、和伸缩装置，在顶板的下方设有传送装置，传送装置包括两个电机、两个卷轮、传送带，电机分别固定在顶板的两头，每个电机下方连接有卷轮，传送带套链在两个卷轮上；伸缩装置安装在传送带上，伸缩装置包括一根固定轴、两个滑轮、电机、卷绳和夹子，两个滑轮分别套装在固定轴的两侧，固定轴的中心安装有电机，两个滑轮与电机连通，固定轴嵌装在传送带上，卷绳顺时针缠绕在滑轮上，卷绳上端固定滑轮上，卷神下端设有夹子；红外感应装置包括信号发射器和信号接收器，信号发射器的两端水平安装在夹子的上方卷绳上，信号接收器安装在取片室、化学清洗池、物理清洁池、烘干室和封装室的内侧底部；化学清洗池内侧有超声波发生器，化学清洗池