一种硅片清洗烘干装置.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN108480277A(43)申请公布日2018.09.04(21)申请号201810313277.8H01L31/18(2006.01)(22)申请日2018.04.10(71)申请人绍兴文理学院地址312000浙江省绍兴市环城西路508号(72)发明人徐海涛(74)专利代理机构绍兴市寅越专利代理事务所(普通合伙)33285代理人郭云梅(51)Int.Cl.B08B3/02(2006.01)B08B3/08(2006.01)B08B3/12(2006.01)B08B13/00(2006.01)F26B21/00(2006.01)H01L21/67(2006.01)权利要求书1页说明书5页附图3页(54)发明名称一种硅片清洗烘干装置(57)摘要本发明涉及光伏设备技术领域，且公开了一种硅片清洗烘干装置，包括第一支撑架，所述第一支撑架的顶部固定连接有支撑台，所述支撑台的底部一侧设置有清洗烘干机构，所述清洗烘干机构的顶部设置有防毒机构，所述清洗烘干机构的一侧设置有上料台。本发明解决了现有的硅片清洗时上料费力、效果不佳、有毒气体乱飘和传送装置易腐蚀的问题，通过清洗烘干机构、酸洗槽、超声波清洗槽、超声波发生器、喷洗槽、喷头、烘干室、热风机和接水槽，改变硅片通常采用一种方式清洗，导致清洗效果不佳的问题，只需要先用化学溶液溶解，然后利用超声波进行清洗，最后进行喷洗，清洗完毕后再烘干，从而达到良好的清洗效果。CN108480277ACN108480277A权利要求书1/1页1.一种硅片清洗烘干装置，包括第一支撑架(1)，其特征在于：所述第一支撑架(1)的顶部固定连接有支撑台(2)，所述支撑台(2)的底部一侧设置有清洗烘干机构(3)，所述清洗烘干机构(3)的顶部设置有防毒机构(4)，所述清洗烘干机构(3)的一侧设置有上料台(5)，所述上料台(5)上设置有硅片固定机构(6)，所述支撑台(3)的顶部一侧固定连接有第二支撑架(8)，所述第二支撑架(8)的顶部一侧设置有传送机构(9)，所述支撑台(2)和第二支撑架(8)上均开设有通槽(7)。2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗烘干装置，其特征在于：所述清洗烘干机构(3)包括酸洗槽(31)，所述酸洗槽(31)的一侧固定连接有超声波清洗槽(32)，所述超声波清洗槽(32)内设置有超声波发生器(33)，所述超声波清洗槽(32)远离酸洗槽(31)的一侧设置有喷洗槽(34)，所述喷洗槽(34)的内壁上设置有喷头(35)，所述喷洗槽(34)远离超声波清洗槽(32)的一侧设置有烘干室(36)，所述烘干室(36)的一侧内壁上固定连接有热风机(37)，所述烘干室(36)的底部设置有接水槽(38)。3.根据权利要求2所述的一种硅片清洗烘干装置，其特征在于：所述防毒机构(4)包括第一挡板(41)，所述第一挡板(41)的底部与酸洗槽(31)的槽壁铰接，所述第一挡板(41)的顶部固定连接有锁扣(42)，所述酸洗槽(31)远离挡板(41)的一侧固定连接有侧板(43)，所述侧板(43)上开设有进出料口(44)，所述进出料口(44)的一侧固定连接有铰接座(45)，所述铰接座(45)的一侧固定连接有第二挡板(46)，所述第二挡板(46)的一侧固定连接有复位弹簧(47)，所述第一挡板(41)的一侧内壁上固定连接有抽风机(48)。4.根据权利要求3所述的一种硅片清洗烘干装置，其特征在于：所述硅片固定机构(6)包括固定篮(61)，所述固定篮(61)的底部和顶部均固定连接有定位杆(62)，所述固定篮(61)的顶部固定连接有挂环(63)，所述挂环(63)上设置有挂钩(64)，所述挂钩(64)的顶部固定连接有第一液压缸(65)，所述第一液压缸(65)的底部固定连接有底板(66)，所述底板(66)的底部固定连接有第一滚轮(67)，所述底板(66)的顶部固定连接有防尘室(68)。5.根据权利要求4所述的一种硅片清洗烘干装置，其特征在于：所述传送机构(9)包括第二液压缸(91)，所述第二液压缸(91)的一侧固定连接有支撑块(92)，所述支撑块(92)的底部四角均固定连接有第二滚轮(93)，所述支撑块(92)的底部中央固定连接有支架(94)，所述第三支撑架(94)的底部一侧铰接有拉钩(95)，所述拉钩(95)上设置有拉环(96)，所述拉环(96)固定在防尘室(68)的一侧。6.根据权利要求5所述的一种硅片清洗烘干装置，其特征在于：所述支撑台(2)的形状为环形，通槽(7)的两侧设置有挡块，酸洗槽(31)、超声波清洗槽(32)、喷洗槽(34)和烘干室(36)的底部一侧均设置有排水口，第一支撑架(1)和第二支撑架(8)的一侧均设置有插座，烘干室(36)的一侧设置有下料台。2CN10848