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半导体高阶制程APC装置的石英部件再生清洗方法.pdf
2023-12-03
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静芙****可爱
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半导体高阶制程APC装置的石英部件再生清洗方法.pdf
本发明涉及半导体技术领域。半导体高阶制程APC装置的石英部件再生清洗方法，包括如下步骤：步骤一，微粉喷砂；步骤二，物理抛光研磨；步骤三，火焰抛光；步骤四，高温退火；步骤五，化学清洗；首先、使用氨水双氧水溶液,溶液温度20‑40℃，浸泡10min；然后、使用硝氟酸溶液浸泡5‑20min；最后、使用硝氟酸溶液浸泡5‑20min；步骤六，超声波清洗；步骤七，冲洗、干燥。本发明降低了成本和达到避免化学去膜存在的腐蚀问题目的。
2023-12-03
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2023-12-03
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2023-11-07
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