一种OLED掩膜版Open Mask表面镁银材料清洗方法.pdf
玉军****la
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一种OLED掩膜版Open Mask表面镁银材料清洗方法.pdf
本发明公开了一种OLED掩膜版OpenMask表面镁银材料清洗方法,包括以下步骤:步骤10、固定;步骤20、药水配置;步骤30、超声波振板安装;步骤40、去除膜层;步骤50、溢流超声波清洗;步骤60、脱水;步骤70、干燥。本发明通过对药水类型的选择和比例的控制,能够在不损伤产品本体的情况下将OpenMask部件表面的MgAg膜层溶解去除,从而实现OpenMask部件洗净再生、二次利用的目的。
一种OLED掩膜版Open Mask表面LiF材料清洗方法.pdf
本发明公开了一种OLED掩膜版OpenMask表面LiF材料清洗方法,包括以下步骤:步骤10、固定;步骤20、药水配置;步骤30、超声波振板安装;步骤40、去除膜层;步骤50、溢流超声波清洗;步骤60、脱水;步骤70、干燥。本发明通过对药水类型的选择和比例的控制,能够在不损伤产品本体的情况下使LiF膜层从OpenMask部件表面剥离,从而实现OpenMask部件洗净再生、二次利用的目的。
一种OLED掩膜版Open Mask表面蒸镀材料清洗方法.pdf
本发明公开了一种OLED掩膜版OpenMask表面蒸镀材料清洗方法,涉及OLED面板生产技术领域,本发明包括如下步骤:根据openmask部件结构形态,选取与之匹配的工装夹具进行固定;选取耐N‑甲基吡咯烷酮腐蚀的材料制作药液浸泡槽;将电子级的N‑甲基吡咯烷酮加入到所述药液浸泡槽中;将所述openmask部件放入所述药液浸泡槽中进行反应;将反应过后的openmask部件取出,放入去离子水槽中漂洗;将漂洗处理完成后的openmask部件放入真空烘箱内干燥处理,具有能够有效清除OpenMask部件蒸
一种Open Mask表面IZO蒸镀材料的清洗方法.pdf
本发明公开了一种OpenMask表面IZO蒸镀材料的清洗方法,包括以下步骤:步骤10、浸泡;步骤20、超声波纯水清洗;步骤30、无尘超声波纯水清洗;步骤40、干燥。本发明能在保证OpenMask本体的完好度的前提下清洗去除OpenMask表面IZO蒸镀材料。
一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物.pdf
本发明属于表面活性剂技术领域,具体涉及一种用于OLED掩膜版及坩埚表面LiF材料清洗的组合物,按质量百分数之和为100%计,包括0.1‑5%的特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂,5‑20%无机强碱性物质,0.5‑20%有机助剂,0.1‑5%螯合剂,余量为高纯水。本发明通过特定的乙二醇基Gemini型两性离子表面活性剂与无机强碱混配,可以快速并有效去除蒸镀工艺中掩膜版及蒸镀设备坩埚上附着的LiF电极材料,大大提高了锂盐的溶解度,解决了市面上产品存在的沉淀问题,且易清洗无残留。