亲水性高分子聚合物光敏引发剂及其制备方法.pdf
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亲水性高分子聚合物光敏引发剂及其制备方法.pdf
本发明公开了一种亲水性高分子聚合物光敏引发剂及其制备方法,亲水性高分子聚合物光敏引发剂的重复结构单元如下所示:式中,m=50-1000,n=50-1000,R’选自氢或含有2-4碳原子的烷基或羟烷基。通过丙烯酸酯共聚4-乙烯基苯基-双(2,4,6-三甲苯苯甲酰基)氧化膦的制备得到,本发明制得的丙烯酸酯共聚4-乙烯基苯基-双(2,4,6-三甲苯苯甲酰基)氧化膦,具有良好的亲水性使得储存稳定性提高;大分子结构使得成膜后无化学迁移,涂膜的残留气味降低;降低成本。
一种可降解聚合物引发剂及其制备方法.pdf
本发明提供一种可降解聚合物引发剂及其制备方法,所述引发剂中同时含有生物可降解酯基团和光可降解三硫代酯基团。该可降解聚合物引发剂通过二卤代化合物与二羧酸化合物共同聚合形成。采用本发明制备的引发剂可以引发烯类单体聚合,将可降解基团引入聚合物中,调节引发剂中酯基和三硫代酯基的比例,可对最终聚合物的降解速率进行调控,以适用不同的使用场合。本发明的技术路线所需成本较低,具有很强的结构可控性和可设计性。本发明不仅是对可降解聚合物合成方法的发展,而且对于实现碳达峰,进而实现碳中和具有重要的推动作用。
一种含光致酸产生剂光敏聚合物及其制备方法.pdf
本发明提供一种含光致酸产生剂光敏聚合物,本发明的含光致酸产生剂光敏聚合物的制备方法,光敏聚合物可以通过包括光酸产生剂来制备为光敏聚合物,其中乙烯基被引入脂环中,从而使将光致酸产生剂在抗蚀剂中的降低不均匀性和浓度,达到改善线边缘粗糙度。
超支化共轭聚合物及其制备方法和作为光敏剂的应用.pdf
本发明属于光敏剂技术领域,公开了一种超支化共轭聚合物及其制备方法和作为光敏剂的应用,以三(4‑(4,4,5,5‑四甲基‑1,3,2‑二氧杂硼烷‑2‑基)苯基)胺和2,6‑二溴蒽醌为原料,通过铃木聚合反应合成目标超支化聚合物。本发明的超支化共轭聚合物具有优异的光敏性能,在光照下可以高效产生包括单线态氧,超氧阴离子自由基和羟基自由基等等在内的各种具有强氧化性的活性氧,能够作为光敏剂材料应用于光动力治疗、光催化氧化反应、污水处理和有机染料等领域。
一种光敏剂及其制备方法.pdf
本发明适用于光敏剂技术领域,提供了一种光敏剂及其制备方法。所述光敏剂的结构通式为:<base:Imagehe=@278@wi=@747@file=@DDA0003446100310000011.JPG@imgContent=@drawing@imgFormat=@JPEG@orientation=@portrait@inline=@yes@/>其中,所述R1为氢、碳原子数为1~10的芳烃会含硫/氧/氮杂原子的取代基的一种或多种;所述R2为氢、甲基、丙基、异丙基、正丁基、叔丁基、甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙