一种含光致酸产生剂光敏聚合物及其制备方法.pdf

(19)国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN115594790A(43)申请公布日2023.01.13(21)申请号202211180931.5(22)申请日2022.09.27(71)申请人苏州威迈芯材半导体有限公司地址215000江苏省苏州市工业园区新虹产业园7栋402(72)发明人刘斌权京哲(74)专利代理机构苏州吴韵知识产权代理事务所(普通合伙)32364专利代理师姜帆(51)Int.Cl.C08F220/18(2006.01)C08F220/38(2006.01)C08F220/28(2006.01)权利要求书7页说明书15页(54)发明名称一种含光致酸产生剂光敏聚合物及其制备方法(57)摘要本发明提供一种含光致酸产生剂光敏聚合物，本发明的含光致酸产生剂光敏聚合物的制备方法，光敏聚合物可以通过包括光酸产生剂来制备为光敏聚合物，其中乙烯基被引入脂环中，从而使将光致酸产生剂在抗蚀剂中的降低不均匀性和浓度，达到改善线边缘粗糙度。CN115594790ACN115594790A权利要求书1/7页1.一种含光致酸产生剂光敏聚合物，其特征在于：所述光敏聚合物分子结构式如下：其中：m、n、o、p分别表示主链中重复单元的摩尔分数，m+n+o+p＝1，m、n、p为0～0.99，o为0.01～1。2.一种含光致酸产生剂光敏聚合物的制备方法，其特征在于：合成路线如下：2CN115594790A权利要求书2/7页制备方法具体如下：S1.将无机盐、Na2S2O4和式(I)表示的化合物在溶剂中反应制备式(II)表示的化合物；S2.将氧化剂和式(II)表示的化合物在溶剂中反应制备式(III)表示的化合物；S3.将式(III)表示的化合物与下式(a)表示的化合物在溶剂中反应制备式(IV)表示的化合物；3CN115594790A权利要求书3/7页S4.在催化剂和碱的存在下，将式(IV)表示的化合物与下式(b)表示的化合物在溶剂中反应，制备式(V)表示的化合物；S5.在碱的存在下，将式(V)表示的化合物与下式(c)表示的化合物在溶剂中反应，制备式(VI)表示的化合物；S6.在溶剂中，在催化剂的存在下，使式(VI)表示的化合物与下式(d)、(e)、(f)表示的化合物反应，制备式[II‑a]表示的目标产物；4CN115594790A权利要求书4/7页3.根据权利要求2所述的含光致酸产生剂光敏聚合物的制备方法，其特征在于：所述步骤S1和步骤S2的溶剂均为水和/或水溶性溶剂，所述水溶性溶剂选自乙腈、酰胺、甲醇或乙醇中的一种，所述无机盐选自Na2CO3、NaHCO3、NaOH或KOH中的一种；所述步骤S2的氧化剂选自H2O2、m‑CPBA或HClO4中的一种。4.根据权利要求2所述的含光致酸产生剂光敏聚合物的制备方法，其特征在于：所述步骤S3的溶剂选自二氯甲烷、氯仿、二氯乙烷、甲醇或乙醇中的一种；所述步骤S4的溶剂选自二氯甲烷、二氯乙烷、DMF或乙腈中的一种，所述碱选自DMAP、DIEA或三乙胺中的一种，所述催化剂选自DCC、EDCI或HATU中的一种。5.根据权利要求2所述的含光致酸产生剂光敏聚合物的制备方法，其特征在于：所述步骤S5溶剂选自二氯甲烷、二氯乙烷、乙醚或四氢呋喃中的一种，所述碱选自TEA、DIEA、碳酸钠、碳酸钾、氢氧化钠或碳酸氢钠中的一种。6.根据权利要求2所述的含光致酸产生剂光敏聚合物的制备方法，其特征在于：所述步骤S6溶剂选自四氢呋喃、DMF或乙腈中的一种，所述催化剂选自偶氮二异丁腈、碘或BPO中的一种。7.一种含光致酸产生剂光敏聚合物的制备方法，其特征在于：合成路线如下：5CN115594790A权利要求书5/7页制备方法具体如下：A1.将无机盐、Na2S2O4和式(I)表示的化合物在溶剂中反应制备式(II)表示的化合物；6CN115594790A权利要求书6/7页A2.将氧化剂和式(II)表示的化合物在溶剂中反应制备式(III)表示的化合物；A3.将式(III)表示的化合物与下式(a)表示的化合物在溶剂中反应制备式(IV)表示的化合物；A4.在溶剂中，在缩合剂和碱的存在下，将式(IV)表示的化合物与式(B0)表示的化合物反应，制备式(V)表示的化合物；A5.在溶剂中，在催化剂的存在下，将式(VI)表示的化合物与下式(d)、(e)、(f)表示的化合物反应，制备式[II‑a]表示的目标产物；8.根据权利要求7所述的含光致酸产生剂光敏聚合物的制备方法，其特征在于：所述步骤A1和步骤A2溶剂均包括水和/或水溶性溶剂，所述水溶性溶剂选自乙腈、酰胺、甲醇或乙醇中的一种；所述无机盐选自Na2CO3、NaHCO3、NaOH或KOH中的一种；所述步骤A2氧化剂选自H2O2、m‑CPBA或HClO4中的一种。9.根据权利要求8所述的含光