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(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN104508741A(43)申请公布日2015.04.08(21)申请号201380038855.7代理人丁香兰庞东成(22)申请日2013.08.28(51)Int.Cl.(2006.01)(30)优先权数据G11B5/84JP2012-1879642012.08.28JPG11B5/73(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日2015.01.21(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2013/0730612013.08.28(87)PCT国际申请的公布数据WO2014/034746JA2014.03.06(71)申请人HOYA株式会社地址日本东京都(72)发明人饭泉京介山口智行田本宏一岩间健太(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司11127权利要求书1页说明书17页附图4页(54)发明名称磁盘用玻璃基板的制造方法(57)摘要本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法,其中,在使用含有包含氧化锆的研磨剂的研磨液对主表面进行研磨时,难以使异物残留于玻璃基板上。所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括以下工序:研磨工序,利用研磨液对玻璃基板的表面的至少一部分进行研磨,该研磨液包含以氧化锆为主要成分的磨粒作为研磨剂;清洗工序,对上述研磨工序后的玻璃基板进行清洗;在上述以氧化锆为主要成分的磨粒的表面的一部分形成有作为氧化锆以外的物质的非氧化锆物质,在上述清洗工序中,使上述玻璃基板的经研磨的表面与可溶解上述非氧化锆物质的清洗液接触。CN104508741ACN104508741A权利要求书1/1页1.一种磁盘用玻璃基板的制造方法,所述磁盘用玻璃基板的制造方法包括以下工序:研磨工序,利用研磨液对玻璃基板的表面的至少一部分进行研磨,该研磨液包含以氧化锆为主要成分的磨粒作为研磨剂;和清洗工序,对所述研磨工序后的玻璃基板进行清洗;在所述以氧化锆为主要成分的磨粒的表面的一部分形成有作为氧化锆以外的物质的非氧化锆物质,在所述清洗工序中,使所述玻璃基板的经研磨的表面与可溶解所述非氧化锆物质的清洗液接触。2.如权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,在所述以氧化锆为主要成分的磨粒中,所述非氧化锆物质的微晶直径为10nm以上。3.如权利要求1或2所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,在所述研磨工序中,按照研磨后的所述玻璃基板的主表面的算术平均粗糙度(Ra)为1.5nm以下的方式,对所述玻璃基板的主表面进行研磨。4.如权利要求1~3中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,在所述研磨工序中,按照研磨后的所述玻璃基板的端面的算术平均粗糙度(Ra)为50nm以下的方式,对所述玻璃基板的端面进行研磨。5.如权利要求1~4中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述非氧化锆物质为选自由氧化铈、氧化铁、二氧化钛、氧化锌、氧化铝、氧化铜以及氧化锰组成的组中的至少任一种物质。6.如权利要求5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述非氧化锆物质为氧化铈,所述清洗液含有氟离子。7.如权利要求5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法,其特征在于,所述非氧化锆物质为氧化铁,所述清洗液含有包含羧酸的酸和铁的2价离子。2CN104508741A说明书1/17页磁盘用玻璃基板的制造方法技术领域[0001]本发明涉及磁盘用玻璃基板的制造方法。背景技术[0002]如今,在个人计算机或DVD(DigitalVersatileDisc)记录装置等中内置有用于记录数据的硬盘装置(HDD:HardDiskDrive)。特别是在笔记型个人计算机等以移动性为前提的设备中使用的硬盘装置中,使用在玻璃基板上设置有磁性层的磁盘,利用在磁盘的面上略微悬浮的磁头对磁性层记录或读取磁记录信息。作为该磁盘的基板,由于具有比金属基板(铝基板)等更难以发生塑性变形的性质,因而优选使用玻璃基板。[0003]另外,应增大硬盘装置中存储容量的要求,寻求磁记录的高密度化。例如使用垂直磁记录方式,使磁性层中的磁化方向相对于基板的面为垂直方向,进行磁记录信息区域(记录位(bit))的微细化。由此,可以增大1张盘片基板中的存储容量。进一步,为了进一步增大存储容量,还进行通过使磁头的记录再现元件部更加突出,从而极度缩短其与磁记录层之间的距离,进一步提高信息的记录再现精度(提高S/N比)。需要说明的是,这种磁头的记录再现元件部的控制被称作DFH(DynamicFlyingHeight)控制机构,配备该控制机构的磁头被称作DFH头。对于与这种DFH头组合用于HDD的磁盘用基板而言,为了避免其与磁头或从磁头上进一步突出的记录再现元件部之间的碰撞和接触,按照使基板的表面凹凸极小的方式进行制作。[0004