磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN105940450A(43)申请公布日2016.09.14(21)申请号201580005892.7(74)专利代理机构北京三友知识产权代理有限公司1(22)申请日2015.02.021127代理人庞东成(30)优先权数据2014-0171342014.01.31JP(51)Int.Cl.G11B5/84(2006.01)(85)PCT国际申请进入国家阶段日B24B37/08(2012.01)2016.07.26C09K3/14(2006.01)(86)PCT国际申请的申请数据PCT/JP2015/0528922015.02.02(87)PCT国际申请的公布数据WO2015/115653JA2015.08.06(71)申请人HOYA株式会社地址日本东京都(72)发明人德光秀造原好太权利要求书1页说明书15页附图1页(54)发明名称磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法(57)摘要本发明提供一种磁盘用玻璃基板的制造方法，该制造方法能够抑制研磨磨粒的清洗残留，能够充分降低基板表面缺陷。本发明中，用表面配备有研磨垫的一对定盘夹持圆板状的基板，将包含胶态二氧化硅作为研磨磨粒的研磨液供给至研磨面，从而对圆板状的基板的主表面进行研磨。上述研磨液含有具有特定的酰胺基或脲基的下述物质作为添加剂。R1-NH-CO-R2式中，R1表示烷基或氢原子，R2表示烷基或-NH-R3，R3表示烷基。CN105940450ACN105940450A权利要求书1/1页1.一种磁盘用基板的制造方法，该磁盘用基板的制造方法包括下述研磨处理：用表面配备有研磨垫的一对定盘夹持圆板状的基板，将包含胶态二氧化硅作为研磨磨粒的研磨液供给至所述圆板状的基板的研磨面，对所述圆板状的基板的主表面进行研磨，该制造方法的特征在于，所述研磨液含有下述通式I所表示的物质作为添加剂，通式IR1-NH-CO-R2式中，R1表示烷基或氢原子，R2表示烷基或-NH-R3，R3表示烷基，R1和R2相互可以为同一基团，也可以为不同基团；另外，R1和R2可以键合而形成环；另外，在R2为-NH-R3的情况下，R1和R3可以键合而形成环。2.如权利要求1所述的磁盘用基板的制造方法，其特征在于，所述通式I所表示的物质的分子量为500以下。3.如权利要求1或2所述的磁盘用基板的制造方法，其特征在于，所述通式I所表示的物质具有所述通式I中R1和R2键合而形成的环状结构、或R1和R3键合而形成的环状结构。4.如权利要求3所述的磁盘用基板的制造方法，其特征在于，所述通式I所表示的物质为选自由2-吡咯烷酮、2-哌啶酮、甘氨酸酐组成的组中的1种以上的物质。5.如权利要求1～4中任一项所述的磁盘用基板的制造方法，其特征在于，所述通式I所表示的物质在研磨液中的含量为0.01重量％～10重量％的范围内。6.如权利要求1～5中任一项所述的磁盘用基板的制造方法，其特征在于，所述研磨液被调整为碱性。7.如权利要求1～6中任一项所述的磁盘用基板的制造方法，其特征在于，所述研磨处理是2个以上的研磨处理中的最后的研磨处理。8.如权利要求1～7中任一项所述的磁盘用基板的制造方法，其特征在于，所述磁盘用基板为玻璃基板。9.一种磁盘的制造方法，其特征在于，在利用权利要求1～8中任一项所述的磁盘用基板的制造方法所制造的磁盘用基板上至少形成磁记录层。2CN105940450A说明书1/15页磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法技术领域[0001]本发明涉及搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的磁盘用基板的制造方法和磁盘的制造方法。背景技术[0002]作为搭载于硬盘驱动器(HDD)等磁盘装置的一种信息记录介质，存在磁盘。磁盘是在基板上形成磁性层等薄膜而构成的，作为该基板过去使用铝合金基板、玻璃基板。最近，随着记录的高密度化的要求，与铝合金基板相比，玻璃基板能够使磁头和磁盘之间的间隔变得更窄，因此玻璃基板所占有的比例逐渐升高。另外，对磁盘用基板的表面高精度地进行研磨以使磁头的悬浮高度尽量下降，由此实现记录的高密度化。近年来，对HDD越来越多地要求更大的存储容量化，为了实现这样的目的，磁盘用基板也需要进一步的高品质化，要求为更平滑且更洁净的基板表面。[0003]如上所述，为了进行对于记录的高密度化所必须的低飞行高度(悬浮量)化，磁盘表面必须具有高平滑性。为了得到磁盘表面的高平滑性，结果要求具有高平滑性的基板表面，因此需要对玻璃基板表面进行高精度的研磨，但仅仅如此是不够的，还需要通过研磨后的清洗去除基板表面的附着异物，得到洁净的基板表面。[0004]作为现有的方法，关于研磨，例如专利文献1中公开了一种研磨用组合物和使用了该研磨用组合物的研磨方法，该研磨用组合物含有1-甲基-2-吡