一种清洁设备及清洁方法.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN106076980A(43)申请公布日2016.11.09(21)申请号201610384100.8(22)申请日2016.06.01(71)申请人京东方科技集团股份有限公司地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号申请人合肥京东方光电科技有限公司(72)发明人井杨坤刘飞徐志伟车晓盼陈传辉(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限公司11243代理人许静黄灿(51)Int.Cl.B08B7/02(2006.01)G02F1/13(2006.01)G02F1/1337(2006.01)权利要求书2页说明书5页附图2页(54)发明名称一种清洁设备及清洁方法(57)摘要本发明提供一种清洁设备及清洁方法。其中，清洁设备用于去除基板上的残留物，包括：设置在所述基板上的形变单元；激励单元，用于生成所述形变单元的激励源，使所述形变单元在所述激励源作用下发生形变，从而带动所述基板振动，以脱落所述残留物。本发明的技术方案在基板上设置有形变单元，并控制形变单元在激励源作用下产生形变，该形变过程能够轻柔地带动基板产生振动，从而在不损伤基板的前提下，使基板表面的残留物脱落下来，以达到清洁效果。CN106076980ACN106076980A权利要求书1/2页1.一种清洁设备，用于去除基板上的残留物，其特征在于，包括：设置在所述基板上的形变单元；激励单元，用于生成所述形变单元的激励源，使所述形变单元在所述激励源作用下发生形变，从而带动所述基板振动，以脱落所述残留物。2.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，所述形变单元为弹性腔体，所述激励源为气体或液体；所述激励单元用于向所述弹性腔体内输送气体或液体，使该弹性腔体发生形变，带动所述基板振动，以脱落所述残留物。3.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，所述形变单元为膨胀膜，且该膨胀膜具有随温度变化的膨胀系数，所述激励源用于改变所述膨胀膜的温度；其中，所述膨胀膜在所述激励源作用下热胀冷缩，进而带动所述基板发生振动，以脱落所述残留物。4.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于，所述膨胀膜至少一部分由塑料纤维制成。5.根据权利要求4所述的清洁设备，其特征在于，所述塑料纤维为聚己二酰己二胺纤维。6.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于，所述膨胀膜表面形成有吸盘结构，并通过所述吸盘结构吸附在所述基板上。7.根据权利要求3所述的清洁设备，其特征在于，所述激励源为气体，所述激励单元包括：温度控制部，用于通过输出不同温度的气体，对设置有所述膨胀膜的基板进行冷热循环处理。8.根据权利要求1所述的清洁设备，其特征在于，还包括：正对所述基板设置的静电模块，用于对所述基板和所述残留物电离，使所述基板和所述残留物携带相同极性的电荷。9.根据权利要求8所述的清洁设备，其特征在于，还包括：清洁腔室，所述激励单元以及设置有所述形变单元的基板位于所述清洁腔室内；气流循环部，设置在所述清洁腔室的腔壁上，用于排出温度控制部输出的气体，以保持清洁腔室内外的气体流动性。10.根据权利要求9所述的清洁设备，其特征在于，还包括：设置在该清洁腔室内的排污槽，用于排放从所述基板脱落的残留物。11.一种清洁方法，用于去除基板上的残留物，其特征在于，所述基板上设置有形变单元，所述形变单元能够在激励源作用下发生形变；所述清洁方法包括：生成所述形变单元的激励源，使所述形变单元在所述激励源作用下发生形变，从而带动所述基板振动，以脱落所述残留物。12.根据权利要求11所述的清洁方法，其特征在于，所述形变单元为膨胀膜，所述膨胀膜具有随温度变化的膨胀系数；生成所述形变单元的激励源，包括：2CN106076980A权利要求书2/2页对设置有所述膨胀膜的基板进行冷热循环处理，控制所述膨胀膜热胀冷缩，进而带动所述基板发生振动，以脱落所述残留物。3CN106076980A说明书1/5页一种清洁设备及清洁方法技术领域[0001]本发明涉及显示器的制作领域，特别是一种清洁设备及清洁方法。背景技术[0002]随着平板显示技术的不断发展，液晶显示器(LCD，LiquidCrystalDisplay)已成功应用于便携式电脑(Notebook)、监控器(Monitor)、电视机(TV)等显示设备中。目前，LCD已成为信息显示的主流产品，其显示品质随着制造工艺技术的进步而不断优化。[0003]在LCD面板的生产过程中，为了使液晶分子能够正确的取向，需要在阵列(Array)基板和彩膜(CF，ColorFilter)基板的表面涂上一层聚酰亚胺(PI，Polyimide)膜，然后在PI膜上进行摩擦(Rubbing)工艺，以实现液晶分子的取向。因此，Array基板与CF基板的PI膜涂布(Coater)工艺是