一种用于水平液相外延生长的石墨舟.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN107779948A(43)申请公布日2018.03.09(21)申请号201711240468.8(22)申请日2017.11.30(71)申请人中国电子科技集团公司第四十八研究所地址410111湖南省长沙市天心区新开铺路1025号(72)发明人罗才旺陈峰武魏唯(74)专利代理机构湖南兆弘专利事务所(普通合伙)43008代理人周长清徐好(51)Int.Cl.C30B19/06(2006.01)权利要求书1页说明书3页附图2页(54)发明名称一种用于水平液相外延生长的石墨舟(57)摘要本发明公开了一种用于水平液相外延生长的石墨舟，包括自下而上依次布置的底座、底板及滑块，所述底座上设有热偶放置孔，所述底板上设有基片放置槽，所述滑块上设有母液槽，所述底座两侧设有可拆卸的挡边，所述底板和所述滑块设于两所述挡边之间，所述挡边上设有用于将滑块压紧于所述底板上的压条。本发明具有结构简单、易于加工、使用方便、有利于降低母液残留等优点。CN107779948ACN107779948A权利要求书1/1页1.一种用于水平液相外延生长的石墨舟，包括自下而上依次布置的底座(1)、底板(2)及滑块(3)，其特征在于：所述底座(1)上设有热偶放置孔(11)，所述底板(2)上设有基片放置槽(21)，所述滑块(3)上设有母液槽(31)，所述底座(1)两侧设有可拆卸的挡边(12)，所述底板(2)和所述滑块(3)设于两所述挡边(12)之间，所述挡边(12)上设有用于将滑块(3)压紧于所述底板(2)上的压条(13)。2.根据权利要求1所述的用于水平液相外延生长的石墨舟，其特征在于：所述母液槽(31)上设有补偿匀气盖板(32)，所述补偿匀气盖板(32)上设有多个均匀布置的补偿孔(321)，所述补偿匀气盖板(32)外周设有补偿槽(33)。3.根据权利要求2所述的用于水平液相外延生长的石墨舟，其特征在于：所述基片放置槽(21)内设置有调整垫片(14)。4.根据权利要求1至3中任一项所述的用于水平液相外延生长的石墨舟，其特征在于：两所述挡边(12)的底部通过连接板(15)相连，所述底板(2)位于所述连接板(15)上，所述挡边(12)与所述底座(1)之间通过螺钉销(7)相连。5.根据权利要求1至3中任一项所述的用于水平液相外延生长的石墨舟，其特征在于：所述底板(2)包括基片放置板(22)以及位于基片放置板(22)下方的防粘连底板(23)，所述基片放置槽(21)设于所述基片放置板(22)上，所述基片放置板(22)、所述防粘连底板(23)以及所述底座(1)之间设有第一定位销(4)，所述第一定位销(4)上端低于或平齐于所述基片放置板(22)的上表面。6.根据权利要求1至3中任一项所述的用于水平液相外延生长的石墨舟，其特征在于：所述底座(1)、所述底板(2)及所述滑块(3)之间设有用于定位所述滑块(3)初始位置的第二定位销(5)。7.根据权利要求1至3中任一项所述的用于水平液相外延生长的石墨舟，其特征在于：所述底座(1)底部沿长度方向设有多个定位孔(16)。8.根据权利要求1至3中任一项所述的用于水平液相外延生长的石墨舟，其特征在于：所述滑块(3)上设有用来与拉杆配合的腰型孔(34)。9.根据权利要求8所述的用于水平液相外延生长的石墨舟，其特征在于：所述滑块(3)上部设有盖板(6)。2CN107779948A说明书1/3页一种用于水平液相外延生长的石墨舟技术领域[0001]本发明涉及水平液相外延设备，尤其涉及一种用于水平液相外延生长的石墨舟。背景技术[0002]水平液相外延设备中，石墨舟用于提供外延片的生长场所，是液相外延的核心。目前所使用的石墨舟主要可以分为放置母液的液槽滑移和放置衬底的滑块滑移两类。衬底滑移类型石墨舟的最大优点是液槽和滑块之间结构紧密，生长时液槽不易移动，可降低母液残留，但是由于滑块上需要挖一个凹槽来放置衬底，在加工过程中凹槽的垂直度和底面的平整度难以保证，因而也会影响高质量外延薄膜的生长。母液滑移类型石墨舟，在底座上设置底板，底板上开设和衬底同样大小的孔道来放置衬底，滑块上也开设孔道来放置母液，拉杆拉动滑块移动使母液与衬底接触，从而在衬底上外延生长一层薄膜。母液滑移类型石墨舟，结构简单、易于加工，但是由于液槽与底板之间的间隙较大，液槽移动过程中容易偏移正常位置，导致与底板之间产生更大的间隙，容易导致薄膜表面出现母液残留，需要进行改良。发明内容[0003]本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种结构简单、易于加工、使用方便、有利于降低母液残留的用于水平液相外延生长的石墨舟。[0004]为解决上述技术问题，本发明采用以下技术方案：[0005]一种用于水平液相外延生长的石墨舟，